就在形势一片向好时，美国开始了对中国芯片产业的围堵，十几年前的担忧最终成为了现实
如今中国的芯片产业链与国外虽然仍有差距，但与之前不同的是，国家政策持续发力，资金支持到位，工程师队伍不断壮大，产业链的各个环节也已今非昔比
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因此原本构想的“引进、消化、吸收、创新”方针没有得到全面贯彻，而是一而再、再而三地引进
美国1968年达到这一标准，日本在1970年达到，而中国自1965年生产出第一块集成电路以来，经过23年，才终于达到了这一标准
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但是这么多重点，主要应该抓哪些呢？最终四个国际上发展很快，而我国还处于空白的领域，成为了最重要、最紧急的“四大紧急措施”，其中之一，便是半导体
关于我国最早的光刻机，有一种说法是1966年，中国科学院微电子研究所的前身——109厂与上海光学仪器厂协作，研制成功我国第一台65型接触式光刻机
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国产光刻机的艰难往事
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3曙光时间来到1999年，北约入侵科索沃时，美国通过电子信息战瘫痪了南联盟几乎所有网络系统
为此有关部门多次紧急召开会议讨论：一旦和美国闹掰，国家信息安全将会面临怎样的威胁？随后，《鼓励软件产业和集成电路产业发展的若干政策》出台，光刻机被列入“863重大科技攻关计划”
光刻机无锡
参考文献：1.中国曾经的光刻机研发与徐端颐，章正远2.国产光刻机五十年：星星之火，可以燎原？陈辰3.中国芯酸往事：熬过多少苦难，才能实现追赶和超越？戴老板4.中国科学院109厂阶段（1958－1986年）之二，中国科学院微电子研究所5.【中国科学报】为祖国绘制科技蓝图——中国科学院学部成立60周年特别报道之一，丁佳6.GK—3型半自动光刻机工作原理及性能分析，刘仲华7.光刻机座谈会在江苏吴县召开，半导体设备8.我国自行设计制造的 KG-3 型半自动光刻机在沪通过鉴定，徐鑫培9.光刻技术六十年，陈宝钦THE END