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光刻机_雕刻机_曝光系统

台积电抢攻2nm王冠!ASML最强光刻机加持,荷兰 光刻机 中芯国际

到货后马上拆机更换,读取速度也很快,刻录效果以后再试,一直用这个牌子,效果不错,东西还是不错,好用,就是包装盒是脏的,不舒服

以前一直用三星先锋也是大品牌,据说造假很厉害,信赖京东自营,这次试试。光驱对我来说是必备硬件,仁者见仁智者见智,有人习惯了U盘,某些特殊情况下,还是光驱方便。读盘速度很快,噪音也不大,做工和三星一样精细,目前用着很稳定,产品包装也比较到位。背面还有好几处防伪的刻字。很不错的一款产品。

作为全新芯片制作工艺平台,N2制程核心创新在于两点:纳米片电晶体管(Nanosheet)与背面配电线路(backside power rail)

此两点都是为了提高单位能耗中芯片性能设计

台积电的「全环绕栅极式纳米片电晶体管」(GAA nanosheet transistors),晶体管的通道在所有四个侧面都被栅极包围,从而减少了电能泄漏

读盘速度:非常好 产品包装:简单便捷 外形外观:大气耐看 读盘声音:还可以 稳定性能:新的

在光存储这个领域中,日本的先锋品牌的确独树一帜,稳定高效,特别是在刻录行业质量真的是杠杠的,前置面板大黑,尽显优雅高贵,LOGO是白色的,装在机箱中大气豪华,这个品牌的刻录光驱可以放心的使用好多年,值得信赖。读盘速度:速度很快,质量挺好。读盘声音:声音小没噪音稳定性能:很稳定。轻薄程度:适中吧外形外观:外观都一样产品包装:包装结实!

外观好看,经济实用 品质优良, 结实耐用,价格实惠,使用满意,特别好用,非常棒,名牌,质量很好,拷贝静音,值得推荐

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这两款芯片都是台积电代工生产的,并且采用的是FinFET架构

台积电5nm虽然已经量产,但产能还是很有限,还在持续提升

这也算是为两家企业2-3nm制程的市场之战吹响了号角

为了抢在台积电之前完成3nm的研发,三星的芯片制造工艺由5nm直接上升到3nm,4nm则直接跳过

未来比3nm更先进的工艺,将极度依赖高NA EUV光刻机

作为制造芯片最先进的设备光刻机的先进程度等直接决定了芯片的制程工艺

目前来看,荷兰的ASML几乎垄断了世界上的高端光刻机,且产量非常少,价格贵

自2017年ASML第一台量产的EUV光刻机正式推出以来,三星的7nm/5nm工艺,台积电的第二代7nm工艺和5nm工艺的量产都是依赖于0.55数值孔径的EUV光刻机来进行生产

先锋刻录机中的战斗机,老品牌值得信赖,刻录很稳定,静音,读取数据很快。读盘速度快,声音轻,很稳定。不愧是光驱界的老大。

在芯片制程逐渐缩小的路上三大巨头你追我赶

2015年,14nm时代开始,成为芯片制程发展的一个分水岭,而联电却在此止步

到了2017年步入10nm时代,英特尔却死死地卡在10nm上,导致i5和i7处理器由于良率问题而迟迟无法交货

要知道,半导体行业进步的背后有着一条金科玉律,那就是「摩尔定律」

摩尔定律表明:每隔 18~24 个月,封装在微芯片上的晶体管数量便会增加一倍,芯片的性能也会随之翻一番

当FinFET结构走到了无法突破物理极限的时候,对新的晶体管技术提出了需求

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