很不错，做工精细。没配SATA线，附件电脑店买一条，装上，电脑认不出。进BIOS设置，解决。读盘速度：非常好读盘声音：非常好稳定性能：非常好轻薄程度：非常好外形外观：非常好
先锋刻录机中的战斗机，老品牌值得信赖，刻录很稳定，静音，读取数据很快。读盘速度快，声音轻，很稳定。不愧是光驱界的老大。
读盘速度：很快，关键是稳，8倍速，蓝光的 读盘声音：声音很轻，可以说用细微来形容 稳定性能：8倍速保证光盘刻录一张保一张 轻薄程度：很轻薄，很便携，非常好 外形外观：小巧，低奢而大气 产品包装：产品的包装很好，两侧的泡沫直接让刻录机在包装盒里悬空，极大地避免了震动！
四川光刻机生产厂家
而台积电、三星这两大晶圆巨头，则是NIL、EUV、DSA三大光刻技术，都是做了准备，不过EUV光刻的专利相对多一点，再是NIL,最后是DSA
蔡司作为EUV光刻机的重要供应链，主要还是发务EUV，专利上占到了353件，而NIL也有38件，DSA则为0
当然，目前NIL光刻机还不能与EUV光刻机相比，NIL光刻机远远达不到EUV的精度，但未来能可就说不准了
DSA光刻，目前没有一定特定的厂商在下注，就像佳能对于NIL技术一样
但如下图所示，在NIL、EUV、DSA三大光刻机上，巨头们都早已布局了
这对于一般的晶圆企业而言，是不可承受的成本，所以一直以来，业界都探讨EUV光刻机的替代方案
目前已经被确定的替代EUV光刻机的方案已经有三种，分别是1、纳米压印光刻（NIL）；2、直接自组装（DSA）光刻；3、电子束光刻（EBL）
EBL电子束光刻机，大家可能熟悉了，前段时间美国公司Zyvex，就搞出了一台电子束光刻机(EBL)，并制造了768皮米（0.768nm），不过这种光刻方式速度慢，不可能用于在规模芯片制造
而纳米压印光刻技术，目前被佳能押注，目前佳能已经能够提供NIL光刻机，比如东芝，就一直想用NIL光刻机来生产NAND闪存，同时在NIL光刻专利中，佳能遥遥领先
3种替代方案
这种外置光驱非常好用，买来刻录cd用的，用完可以带走。非常好的一款刻录机，大品牌，值得信赖，而且这个也比较专业吧！
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众所周知，在当前的芯片制造环节中，光刻是其中一个必不可少的重要环节
而光刻就需要用到光刻机，而7nm及以下芯片的光刻时，就需要用到EUV光刻机
EUV光刻机非常复杂，全球只有ASML一家企业能够生产
同时EUV光刻机成本非常高，一台EUV光刻机售价超过10亿元，最新的0.55数值孔径的EUV光刻机，价格更是超过3亿美元（20亿元）