光刻机原理腐蚀机
然而就在2019年，美国突然宣布对华为实施制裁，并且将制裁范围从芯片扩展至其他更多的领域，光刻机对华销售也在其中
而此时的中国，小于5nm的芯片晶圆只能依靠ASML的EVU光刻机生产，迫于美国的压力，荷兰只能妥协，中国因此迎来光刻机发展的第三次“卡脖”
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从“造不如买”到集中力量攻坚
使得自身的科研进度逐步减缓，以至于中国的集成电路在科研、教育等方面出现脱节，自主研发的道路越走越窄
取而代之的是数以万千的廉价劳动力，尽管后来尽力去跟进研发，但由于自身发展原因加上大环境影响，导致曾经辉煌一时的半导体盛景已然成为“泡沫”
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因此我国的光刻机技术水平仍然需要不断努力突破，才能弥补这个差距
【中国光刻机的三次“突破”】 在1952年，我国步入计算机科研，国家也正是成立了计算机科研小组，而此时的中国相对于外国来讲，GDP仍然差距较大
直到1956年，我国正式开始重视半导体产业，并且成功研制出第一只晶体三极管，从此中国进入半导体的新纪元，然而此时相对世界上第一只三极管的诞生已经过去了长达9年的时间
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基础实力差，加上外国这样的“绊脚石”，让中国不得不主张自行研发
1977年，历经10年之久的中国经过自己的不懈努力，上海光学机械厂成功制造出JKG-3型接触式半自动光刻机
这也代表着此时的中国半导体产业正在紧跟外国的科技发展步伐，然而真正距离美国制造出的光刻机已经相差近二十年，并且就在同年，美国再次推出了真正的自动化光刻机
虽然迫于美国的压力，荷兰无法向中国出售先进制程的光刻机，但庞大的中国市场，让ASML无法拒绝其诱惑力，数据统计显示，在2022年第一季度，ASML共交付62台光刻机，其中21台DUV都成功销往中国
【“求人”不如“求己”】 回顾中国的半导体行业，光刻机的技术发展历程可谓是曲曲折折，但这也无时无刻在警醒着中国，不能长期靠“外来力量”，究其根本还是要靠自己
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