前道光刻机对光刻机的精度要求非常高，所以会有按精度分的DUV、EUV等光刻机
而前道光刻机方面，自然ASML是老大，毕竟EUV光刻机，只有ASML能够生产，而国内自研的前道光刻机，分辨率显示还是90nm的
那么有没有可能继续进行第4次曝光，然后就实现了11nm，再进行第5次曝光，然后实现10nm以下呢？理论上可以，但实际不行
能生产几纳米的芯片?答案或是22nm
在芯片制造的过程中，其它是需要两种光刻机的，一种是前道光刻机，就是将光掩膜板上的电路图，记录到涂了光刻胶的晶圆上的光刻机，因为这是前道工序，所以称之为前道光刻机
还有一种是后道光刻机，用于芯片后期的封装，在芯片制造过程中，属于后道工序，所以叫后道光刻机
读盘速度：读盘速度是非常的快，光盘放进去之后，机器反应非常灵敏。? 读盘声音：读盘的声音比较小，而且声音很稳定。? 稳定性能：性能很稳定，读盘的时候声音很稳定。 轻薄程度：这不是轻薄的光驱，这种光驱现在很难买了。幸好先锋还在生产。这一种平置式要比那种超薄的效果要好。? 外形外观：做工非常好，一看就是大厂的东西。? 产品包装：包装非常好，一看就是大厂的东西。让人放心。
正品，一直以来都用这牌子的刻录机，先锋刻录机稳定性好，读取速度快，读盘的声音小 刻录光盘很少有飞碟，可以刻录多种型号的光盘，刻录的光盘质量很好，能够保存的的时间长，是备份数据的好帮手，物有所值，很好用。
那么问题就来了， 国产90nm的前道光刻机，究竟能够生产几纳米的芯片，是不是就只能是90nm了？事实上并不是的，在一些晶圆厂的实际测试中，在精度方面，90nm肯定没问题的，同时经过两次曝光，可以得到45nm的芯片，三次曝光最高可以达到22nm左右的水平
口罩换光刻机成功了吗
在测试中，进行到第三次曝光时，晶圆的良率已经降低到了一个相当低的值，甚至有时候会低于20%了
如果进行第四次曝光，估计良率会低到离谱，至于第五次、第六次，根本不用想了，良率会接近于0%
目前像ASML的DUV光刻机，一般最多也只进行两次曝光，很少进行多次曝光，因为会大幅度的降低良率，造成成本上升，这是得不偿失的
据称，目前国内正在研发28nm精度的光刻机，那么经过2次曝光后，能够达到14nm，然后可以尝试性的进行第三次曝光，然后有可能迈入7nm
当然，以上只是猜测，因为精度越高的光刻机，多次曝光的难度也就越高了，一切还得看真机的实测才行
做工很好，十年前买的先锋刻录机有点光头老化，再买一个用，完美，非常满意！京东物流就不用说了，快！光驱手感好，整体轻薄，使用时声音小，速度快，非常好用的一款！
刚收到货，装上后刻了一张，很好。原以为先锋DVD内置刻录机停产了。现在看来是谣传，从机子上看是今年5月出厂的。
挺好的，和想象中一样，随意搭都很好看，满意！实用性和颜值都非常的赞，我很喜欢，还会再来买的宝贝做工真的非常精细，细节真的棒，爱了爱了
第三次购买先锋刻录机了，质量很好，价廉物美，值得大家购买，5星好评！超值、超值、超值……质量保障，大品牌值得信赖