而如果我们把2017年当作中国的两镜头EUV光学系统成型的时间节点，我们有条件在3年内完成ADT验证机吗？回答这个问题，我们首先要理清蔡司的MET工具和长春光机所的MET工具的差异：2003年蔡司的两镜头MET曝光工具的核心功能，是进行EUV的曝光能力极限的原理性论证工作；而2017年中国的两镜头MET曝光系统核心是搭建中国的EUV研究基本条件、团队
很好，正常使用中，这个品牌的技术过硬，用着放心，推荐大家购买。一直信赖先锋这个牌子，但现在的刻录机比以前的噪音要大，而且数据线也没有...
ASML NXE:3300 极紫外 EUV 光刻机，具有数值孔径 NA0.33 的极紫外光学曝光系统王丽萍教授的极紫外光刻研究王丽萍教授的主页王丽萍教授目前是中科院大学的博士生导师，在她的主页上，我们可以看到她参与了02专项的极紫外光刻研究
上次买的华硕，这次买先锋的，同样品质和价格喜人，读盘能力强，声音小，读取快速，刻录时间和刻盘质量稳定，一次买了2个，单位上用的，同事用了都说可以，六一八期间促销还有卷送，总共买东西便宜了一二百，非常满意的购物体验。
中国光刻机困局之2022(二):六镜头极紫外光学系统的起源
2005年论文：美国加州伯克利劳伦斯实验室的NA0.3的MET工具在这篇论文里，我们可以清晰的看到MET工具CAD模型，它主要包括两个部分：1，从上部的同步辐射光源系统（From synchorotron）经过一个扫描单元传递至曝光装置；它相当于EUV光刻机的EUV光源系统；2，MET曝光系统主要包括从上到下的4个部分：光罩台、投影光学系统、晶圆台、照明台
先锋刻录机很好，上一个用了7年多才坏，现在换一个新的。很好用，读取速度很快，不愧是大牌子！
专门咨询计算机的朋友选的这款，很好用，速度很快，也没什么噪音，价格也公道，京东送货也超快，不耽误时间，很满意！
2005年美国加州伯克利劳伦斯实验室的NA0.3的MET工具这篇论文给出了一份测试结果，展示了30nm和25nm的等线宽线距（L/S）的曝光能力，可以看到30纳米等L/S曝光结构非常清晰
而曝光28.8纳米的独立线条，仍可以获得非常高精度的曝光图案
半导体光刻机新三板企业
王丽萍研究生在读时，于2007年发表了1篇EUV光刻光学设计的论文，涉及两镜头微缩投影系统：《极紫外投影光刻两镜微缩投影系统的光学设计》
王丽萍2007年发表论文在这篇论文中，给出了一套MET工具的光学设计图，其数值孔径NA0.3，分辨力优于32nm、矩形视场为 300μm×500μm
读盘速度：快，对办公用来说足够了 外形外观：颜值派很喜欢，有质感，简洁大方 轻薄程度：中等吧 稳定性能：陆陆续续买过一些先锋的产品，整体而言很耐用，使用无特殊状况。 产品包装：无破损，保护得当。物流也很快。 这不是一个好评模板，但也算是一个好评模板，买东西评价也是一个很有必要的事情，分享使用的的好与不好，为他人提供建议，可以做参考，自己每次买东西前也会浏览别人的评价，看完也会觉得更加踏实，卖家秀令人迷惑，买家秀才更为真实，也可以让我们冲动的时候冷静一下头脑，更清醒的考虑到底适不适合自己，还需要不需要买。