当前有能力采用价格昂贵的EUV光刻机的客户其实只有Intel、台积电和三星，它们目前推进的最先进工艺为3nm，然而台积电的3nm被指在性能参数方面远未达到预期，这已导致苹果放弃了3nm，迫使台积电进一步改良3nm工艺至N3E
随着光刻机变得更加负责，光刻机的耗电量也在激增，业界人士指出High-NA EUV光刻机的总功耗将达到200万瓦的水平，每天耗电量将达到4.8万度电；如今台积电仅是推进至5nm工艺，它消耗的电力已占中国台湾省的8%，业界预期推进至3nm之后它消耗的电力将占中国台湾的12%
上海做光刻机公司有哪些
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中国市场已是它最后的救命稻草
如此情况下，这些芯片制造企业已不可能继续大规模采购EUV光刻机，对于更先进的High-NA EUV光刻机的采购也可能因此延期，毕竟市场需求不强的情况下，更先进的光刻机投资额巨大，会导致芯片制造企业承担巨大的风险
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值得注意的是不仅ASML将希望放在中国市场，韩国存储芯片、美国芯片都将希望放在中国市场，它们目前都希望中国企业采购更多芯片，帮助它们解决芯片库存，确保现金流，为此甚至不惜大举降价抛售，与此前它们大举涨价销售芯片形成鲜明对比，这不免让人感叹一年河东、一年河西
三星的3nm工艺表现较好，但是三星的3nm工艺在良率方面却比台积电更低，导致成本奇高，失去经济价值
同时全球芯片行业已步入下行阶段，芯片企业为了节省成本均不愿采用先进工艺，高通就已确定将从只拥有14nm及成熟工艺的格芯采购76亿美元的芯片，这都导致台积电等芯片制造企业失去了研发先进工艺的动力
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