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光刻机_雕刻机_曝光系统

不黑不吹,光刻机什么时候中国能造

Pioneer 外置光驱很好使用,兼容macOS系统,读碟声音很小。很好的一款光驱,先锋品牌质量不错,虽没有用同样给予好评!

不黑不吹,光刻机什么时候中国能造

因为发现别的品牌读盘能力都有不足,选了很多款,最终发现还是先锋的适应性更好!买了,确实不错!之后再买,就这个牌子了,店家发货很快,收藏店家,以后常来!

读盘速度:没有具体的数据,反正挺快的。 读盘声音:很安静,试刻录了一个音乐CD盘,写入很快,放到音响上,播放没有问题。 稳定性能:用了很多个先锋了,质量信得过。旧的因为接口不同,所以买了个新的。

综合起来看,要想芯片制造水平达到7nm,需要EDA支持7nm,半导体材料也是支持7nm,半导设备也支持7nm……而EUV光刻机只是其中的一种设备,就算我们突破了,美国或其它国家一样能够在其它设备、材料上卡住我们,因为目前国产的半导体材料、半导体设备,很多在28nm甚至更成熟的工艺,达到7nm的少之又少

外形外观:精美 读盘声音:静音 稳定性能:稳定 轻薄程度:超薄 产品包装:精美 读盘速度:快

不黑不吹

按照机构的数据,2022年28nm及以下的芯片占全球所有芯片的比例还高达75%+,所以我们现在的重点不是先进工艺,而是全产业国产化率,同时提升产能,先满足国内成熟工艺的需求,先解决了这些问题,再向先进工艺前进,这样才走得稳健

目前网络有一种声音,那就是我们必须自研出EUV光刻机,只要自研出EUV光刻机,ASML和美国就卡不住我们的脖子了,芯片就再也不用愁了

真的自研出EUV光刻机,我们就能够制造出7nm芯片了么?在我看来,仅靠EUV光刻机,是远远不够的,还差得远呢

芯片制造是一个非常复杂的流程涉及到几十种设备,上百道工序,主要可以分为单晶硅片制造、前道工序、后道工序这三部分

单晶硅片涉及到各种半导体材料,目前国内整体半导体材料的自给率不足20%,特别是14nm以下的半导体材料自给率就更低,高度依赖国外进口

先锋的刻录机是老牌子,到了之后用了一下,非常好。顺便吐槽一下,现在的笔记本好多都不带光驱了,配一个外置光驱很有必要。

很好,刻碟顺畅,外观经典,包装标准安装简单,配件齐全,质量可靠,经久耐用。东西很不错,试用了后觉得效果很好,快递速度也很快,收到后整体满意。

还有一些材料,也需要达到7nm,比如光刻胶,7nm及以下芯片制造需要的是EUV光刻胶,但我们自给率为0

后道工序,这里主要涉及到的是封测,相对要求会低一些,但也是有工艺精度要求的

目前仅是EUV光刻机卡得最为明显,卡得最为关键,最为大家所知而已,并不意味着其它设备或材料不卡了,一旦EUV光刻机我们有了,美国在其它设备或材料上就会卡住我们的

稳定性能:非常稳定 读盘速度:速度快 读盘声音:无噪音 外形外观:精致美观 轻薄程度:轻薄

孩子幼儿园有很多光盘发下来,笔记本又没配备光驱。网上一搜,外置光驱就选中了这款。从价格上看并不便宜。主要谁买大牌,图省心,毕竟还是需要用长时间的。完美解决问题,连上笔记本就能用。希望能一直用下去。

光刻机什么时候中国能造

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