当然，作为实验性工具，MET也是在不断发展的，第一代MET工具NA0.3的数值孔径，对应于ASML的第一代NA0.33 EUV光刻机；第二代MET工具具有NA0.5的数值孔径，对应于ASML的第二代NA0.55EUV光刻机
2005年论文：美国加州伯克利劳伦斯实验室的NA0.3的MET工具在这篇论文里，我们可以清晰的看到MET工具CAD模型，它主要包括两个部分：1，从上部的同步辐射光源系统（From synchorotron）经过一个扫描单元传递至曝光装置；它相当于EUV光刻机的EUV光源系统；2，MET曝光系统主要包括从上到下的4个部分：光罩台、投影光学系统、晶圆台、照明台
德国蔡司的EUV光学系统实际上在ADT之前，美国开展了为期3年的工程验证机（ETS）研究，其采用的是四镜头曝光光学
所以更宽范围来说，过去30年的EUV光刻光学研究一共出现了5代形态
而高NA0.55EUV光学系统是从十年前便开始布局工业化，因此，我们从蔡司的产品迭代来看，我们与蔡司的技术代差实际上是放大了的
中国光刻机困局之2022(二):六镜头极紫外光学系统的起源
在过去三年的六镜头EUV光刻光学系统项目的研究里，王丽萍教授和她的团队已经进展到哪一个阶段了呢？在面对西方技术封锁下，我们能够获得项目推进所必须的软硬件条件吗？下次见！两镜头极紫外曝光工具MET-5参考资料2017年中科院02专项验收通讯稿：https://www.cas.cn/cm/201707/t20170710_4607967.shtml2017年长春光机所02专项验收通讯稿：http://www.ciomp.cas.cn/xwdt/mtcg/201707/t20170711_4830235.html2005年加州劳伦斯伯克利实验室MET工具论文：https://digital.library.unt.edu/ark:/67531/metadc885229/m2/1/high_res_d/901242.pdf纽约州立大学理工学院ADT工具主页：https://www.sunypoly.edu/research/wafer-fabrication/wafer-processing-rd/lithography-patterning-tools/asml-300mm-adt-euv.html
自打U盘流行，硬盘容量大了之后，光驱就离我们越来越远了，刻录机也不例外，现在基本很少用到。因为喜爱无损音乐，而CD正是最好的载体，所以空着多年的光驱位又要启用了，当日下单次日即收到，趁孩子睡午觉立即刻了两张盘，刻录能支持最大速度，但我用的是最低速度来，一张CD刻好也只需十来分钟，刻好立即回放读碟，效果棒棒的，这光驱不管读还是读都叫我满意！
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更令人注意的是一项2018年1月至2021年9月的新项目：六镜极紫外光刻投影物镜研发与验证, 参与, 国家任务, 2018-01--2021-09王丽萍教授的极紫外光刻研究活动值得注意的是，与上述六镜极紫外光刻投影物镜开发项目同时同期开展的，还有一个国家项目“极紫外光刻机核心子系统关键技术攻关”
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