然而在EUV光刻机面世之前，一直都是使用的DUV光刻机，使用的是短波紫外线，突破到极紫外线，一共花费了20年的时间才完成，可见对于光源的选择使用，其的难度是非常大的，没有捷径可走
2、反射镜反射镜听起来好像是一个比较常见的工具，然而在EUV光刻机上的反射镜可是一个关键技术
为什么这样说呢？在时间的推移下，拥有核武器，能够制造出核武器的国家已经达到9个之多，五常和巴基斯坦、印度、以色列以及朝鲜这9个，而全球的核弹数量相加，更是一个庞大的数字
毕竟光刻机本就不是一个国家能独立建造的东西，是依靠着全球产业链的支持，进行供应而成
那么将这个极限制造出来的光刻机，有多难非常明显了，而每一纳米的突破，都是极其难得，阿斯麦尔温彼得甚至还表示，中国不太可能独立造出顶尖光刻机
要说最难的就是这3个点了
1、光源我们知道，目前ASML最尖端的就是EUV光刻机了，而其使用的就是极紫外线，能够将光刻技术扩展到32nm以下
比原子弹稀有
那么这个光刻机到底为什么这么难造呢？光刻机是用来制造芯片的核心装备，而芯片的重要性那就不言而喻了，而没有光刻机，我们就没有办法制造芯片，所以涉及到芯片，那么光刻机就是无法躲开的存在
目前我国的国产光刻机，只能生产90纳米的芯片，就算我们能设计更为精细的芯片，可是没有光刻机一样造不出，目前我们要做的是突破28纳米的光刻机技术
就说光刻机，在2，30年前技术还处于粗糙的阶段，如今的发展进入了高精端的领域，那么再经过5.60年，再看向光刻机技术，是否又会觉得这是一件普通到常见的技术了呢？不论是从领域还是从难度等问题，都没有可比性，也没有意义，要说难，那都是难造的
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小孩子幼儿园有很多光盘发下来，笔记本又没配备光驱。网上一搜，外置光驱就选中了这款。从价格上看并不便宜。主要谁买大牌，图省心，毕竟还是需要用长时间的。完美解决问题，连上笔记本就能用。希望能一直用下去。
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