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光刻机_雕刻机_曝光系统

华为与光刻机,台积电抢攻2nm王冠!ASML最强光刻机加持

首先打开包装袋里边东西完好,然后物流很快,加上商品出厂日期是7月全新的,配件,赠品齐全,这次购物,我对京东各方面都很满意

华为光刻机

读盘速度:读取速度超级快4K蓝光整盘读取最快5分钟搞定! 读盘声音:静音效果好,不会出现明显共振和跳盘及其他杂声噪音问题出现。 稳定性能支持UHD 的4K蓝光盘读写!这点非常棒,是我买这款光驱最重要的原因。稳定性非常好,连续读写不降速。 轻薄程度:正常5.25光驱位或者移动光驱盒都能非常完美安装。 外形外观:外观漂亮,新款带类钢琴烤漆面的一体面板,比老款好看很多。 产品包装:包装精致,不知道是不是因为是国内总代的关系,所有一次性封贴都是索厉的。

台积电抢攻2nm王冠!ASML最强光刻机加持

这两款芯片都是台积电代工生产的,并且采用的是FinFET架构

台积电5nm虽然已经量产,但产能还是很有限,还在持续提升

这也算是为两家企业2-3nm制程的市场之战吹响了号角

为了抢在台积电之前完成3nm的研发三星的芯片制造工艺由5nm直接上升到3nm,4nm则直接跳过

未来比3nm更先进的工艺,将极度依赖高NA EUV光刻机

作为制造芯片最先进的设备,光刻机的先进程度等直接决定了芯片的制程工艺

目前来看,荷兰的ASML几乎垄断了世界上的高端光刻机,且产量非常少,价格

自2017年ASML第一台量产的EUV光刻机正式推出以来,三星的7nm/5nm工艺,台积电的第二代7nm工艺和5nm工艺的量产都是依赖于0.55数值孔径的EUV光刻机来进行生产

在此之前,台积电将会使用有N3E、N3P和N3X等3纳米制程的改进版生产芯片

ASML业界最强光刻机加持除了公布2nm先进制程,台积电会议上还宣布,将在2024年,引进ASML(阿斯麦下一代最先进的光刻机

此光刻机为「高数值孔径极紫外」(High-NA EUV)光刻机

发货速度快,包装严实,刻录机做工很精致,装上很好用,就是没有送刻录软件。替换了原来的内置光驱,完美安装上后,开机自动识别,无需任何操作(win7)

华为与光刻机,台积电抢攻2nm王冠!ASML最强光刻机加持

在2021年年底,台积电正式提出2nm以及后续1nm的工厂扩建计划

预计总投资金额将高达8000亿至1万亿新台币(约1840-2300亿元),占地近100万平方米

另外,台积电1nm研发也取得了一些进展

在2021年,台大与台积电、美国麻省理工学院合作研究发现二维材料结合「半金属铋(Bi)」能达极低电阻,接近量子极限

上午下单,下午不到晚上就到了,配送超快,当地大库发货就是方便,拿着比较轻希望耐用,读盘静音快速,刻录快也很静音,数据写入平稳,没有送刻录软件和数据线,价格便宜,用原有的Nero9赠送版本能识别出新光驱,面板简洁。

此前,英特尔在2021年7月公布的公司最新路线图会议上,提到自家也将拥有阿斯麦下一代业界最强光刻机

这台光刻机型号为High-NA量产型EUV光刻机EXE:5200,将采用不同的镜头系统,NA更大

据阿斯麦发言人称,更高的光刻分辨率将允许芯片缩小1.7倍,同时密度增加2.9倍

还没安装,连电测试了一下没问题。这两天装起来试试。工作需要刻盘,先锋算是光驱里边老牌子了,希望可以好用一点,用久一点。总之不错,很满意。

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