中国光刻机困局之2022(二):六镜头极紫外光学系统的起源中国光刻机的研发现状
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当然,作为实验性工具,MET也是在不断发展的,第一代MET工具NA0.3的数值孔径,对应于ASML的第一代NA0.33 EUV光刻机;第二代MET工具具有NA0.5的数值孔径,对应于ASML的第二代NA0.55EUV光刻机
不愧是老牌子,质量杠杠滴,上一个也是买的先锋,用了快十年,还能继续用,这次再买个新的,速度不稳定,忽快忽慢的,但是快起来的时候真快
买了三个光驱,反馈都很不错,声音小,噪声小,刻盘的速度很快,跟之前的光驱比的确不是一个档次,之前光驱识别光盘都很困难,这个很快就能识别出来,真的是大赞。京东速度还是一如既往地快,让人赞不绝口,以后还是继续支持京东?
物流很快,上午下单下午就到了。东西很轻,主要用来读DVD和CD,目前没有什么问题,声音不大,刻录没用过。基本满足需求。
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2005年论文:美国加州伯克利劳伦斯实验室的NA0.3的MET工具在这篇论文里,我们可以清晰的看到MET工具CAD模型,它主要包括两个部分:1,从上部的同步辐射光源系统(From synchorotron)经过一个扫描单元传递至曝光装置;它相当于EUV光刻机的EUV光源系统;2,MET曝光系统主要包括从上到下的4个部分:光罩台、投影光学系统、晶圆台、照明台
ASML NXE:3300 极紫外 EUV 光刻机,具有数值孔径 NA0.33 的极紫外光学曝光系统王丽萍教授的极紫外光刻研究王丽萍教授的主页王丽萍教授目前是中科院大学的博士生导师,在她的主页上,我们可以看到她参与了02专项的极紫外光刻研究
在过去三年的六镜头EUV光刻光学系统项目的研究里,王丽萍教授和她的团队已经进展到哪一个阶段了呢?在面对西方技术封锁下,我们能够获得项目推进所必须的软硬件条件吗?下次见!两镜头极紫外曝光工具MET-5参考资料2017年中科院02专项验收通讯稿:https://www.cas.cn/cm/201707/t20170710_4607967.shtml2017年长春光机所02专项验收通讯稿:http://www.ciomp.cas.cn/xwdt/mtcg/201707/t20170711_4830235.html2005年加州劳伦斯伯克利实验室MET工具论文:https://digital.library.unt.edu/ark:/67531/metadc885229/m2/1/high_res_d/901242.pdf纽约州立大学理工学院ADT工具主页:https://www.sunypoly.edu/research/wafer-fabrication/wafer-processing-rd/lithography-patterning-tools/asml-300mm-adt-euv.html
2017年长春光机所的2镜头MET曝光工具验收,获得32纳米线宽曝光图形十年后,2017年02专项验收时,我们可以看到,其验收的两镜头MET曝光工具,获得32纳米线宽曝光图形,与2007年王丽萍教授的论文设计几乎是一致的
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