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相比于俄罗斯从受到制裁才开始布局研制光刻机，中国则是未雨绸缪，很早就开始决定自主研制光刻机了，同时中国在这方面起步其实并不晚，在上世纪七十年代还仅仅跟随着国际发展的脚步，拿得出来并不落后的光刻机
之所以会在日后慢慢落伍，中国与俄罗斯都有着相同的一点，那就是在软件上有着制约
一味想将半导体工业扑在军事上的苏联当局，选择的电子管微型化路线，显然是不适用于集成电路发展的，所以在集成电路的竞赛上，美国取得了方向山的胜利，这让美国将优势保持到了今天
7nm光刻机的工艺难度并不低，这让今天很多工业基础深厚的国家都一定能够独立建造出来，俄罗斯的高调宣布在不少西方国家眼里不过是一种吹牛皮罢了
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有了出色的国产工业软件后，中国在日后的半导体工业发展上将呈现出一个飞跃，这也是为什么中国要坚持一步一个脚印地走完光刻机研制的全部历程，当然俄罗斯现在宣布研制也是亡羊补牢未为不晚，起码能够在半导体工业自主化上迈出重要的一步
这些光刻机知识您得知道
二、前途依旧渺茫因为光刻机是不少高科技体现的一个整体，所以当一方面有所缺失，那么对于光刻机来说都是致命的，这要求不光在光刻机的硬件上要取得成功，在其软件上也不能落后
俄罗斯因为长年电子工业落后，所以在软件发展上也非常缓慢，于是俄罗斯今后即便研制出了成功的光刻机，想要将它用于生产也是一件非常困难的事，所以俄罗斯能否在未来成功研制出7nm光刻机，这还必须打上一个疑问号
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因为电子工业发展没有及时发展相关的工业软件，所以即便能够生产出功能一致的光刻机，也会因为没有相配套的软件控制光刻机，导致光刻机成为了一套无用的机器
这一点在被中国相关部门重视后，很快组织了多场研讨会议，准备自主研制相关的工业软件，让中国在工业软件上不再受限于人
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