但是这么多重点，主要应该抓哪些呢？最终四个国际上发展很快，而我国还处于空白的领域，成为了最重要、最紧急的“四大紧急措施”，其中之一，便是半导体
关于我国最早的光刻机，有一种说法是1966年，中国科学院微电子研究所的前身——109厂与上海光学仪器厂协作，研制成功我国第一台65型接触式光刻机
帮同事升级电脑，装了固态硬盘，加了光驱，重装了win10系统，电脑速度一下子提高了许多。同事很开心。
今天推荐一篇深度文章《封锁、逆境、曙光：国产光刻机的艰难往事》2018年，大洋彼岸的一则禁令，让国人感受到了一小颗芯片的力量
光刻机也逐渐成为热词，网上关于光刻机的讨论铺天盖地
70年代初，美日等国分别研制出接近式光刻机，而国内却一直停留在接触式光刻机
1977年，江苏吴县举行了全国性的光刻机座谈会，明确要改进光刻设备，尽快赶超世界先进水平
于是清华大学精密仪器系、中电科45所等先后投入研制更先进的光刻机
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国产光刻机的艰难往事国产euvl光刻机
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3曙光时间来到1999年，北约入侵科索沃时，美国通过电子信息战瘫痪了南联盟几乎所有网络系统
为此有关部门多次紧急召开会议讨论：一旦和美国闹掰，国家信息安全将会面临怎样的威胁？随后，《鼓励软件产业和集成电路产业发展的若干政策》出台，光刻机被列入“863重大科技攻关计划”
而此时国内刚刚启动193nm光刻机项目，落后国际水平20多年
经过5年的艰苦追赶，终于在2007年，上海微电子宣布研制出90nm光刻机
但是由于元器件大部分来自国外，西方立刻实行了禁运，导致无法量产
2008年，“02专项”启动，继续攻关，主攻高端光刻机技术，同时鉴于之前的教训，“02专项”的重点，还有提升材料和工艺等产业配套能力