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光刻机工作台技术,中国为什么有那么多“弯道超车”故事?再论EUV光刻机的战略价值

中国古语有云~~~杀鸡取卵,饮鸩止渴,就是指得这个“弯道超车”呀

我们要警惕最近有一些MCN机构艺人胡编乱造,为芯片造假翻案,并且大肆鼓吹各种“弯道超车”、“美国芯片没人要了”、“美国半导体要失业了”

这些“弯道超车”党的鼓吹、糊弄舆论,有可能导致我们国家大批投资化为泡影

逻辑芯片晶圆厂不同芯片节点光刻机需要投资比例到了7纳米以下,先进逻辑芯片所需要的EUV光刻机的投资比例不断增加:1,5纳米节点的EUV光刻机比例达到60%;2,3纳米节点的EUV光刻机比例达到70%;3,2纳米节点以下的EUV光刻机比例达到80%

目前的顶尖芯片制造三强,台积电三星、英特尔,通过长达20年的高级逻辑芯片的市场化的迭代发展,获得了大量的利润进一步刺激资本一代又一代地投入先进技术的开发,从而形成一个良性的循环

“弯道超车”党看不见这些,他们整体呼喊着“弯道超车”的“商业模式”,无非是左右国家科技投入政策,将一笔又一笔的千亿规模的投资投入到他们的“弯道超车”的游戏模式中去罢了

光刻机工作台技术,中国为什么有那么多“弯道超车”故事?再论EUV光刻机的战略价值

比如,7纳米逻辑芯片晶圆厂的光刻机投资中:1,干式DUV光刻机的投资比例是10%,;2,浸没式DUV光刻机的投资比例大约是50,;3,数值孔径NA0.33的第一代EUV光刻机的比例是40%

当然,到了2纳米节点以下,有需要引入更加昂贵第二代高NA0.55 EUV光刻机,这意味着2纳米逻辑节点以下,晶圆厂的EUV光刻机投资总额进一步增加

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光刻机工作台技术

中国为什么有那么多“弯道超车”故事?再论EUV光刻机的战略价值

很好的刻录机,一直用这个牌子,便宜实惠,上一个用了5年,里面的皮带不行了,就又买个一个!

在先进晶圆厂,28纳米以下的逻辑芯片制程,其所需要的EUV曝光数量随节点的迭代而逐渐增加,所以节点越先进,EUV光刻机所需数量越多

所以,28纳米以下的高级逻辑芯片,其光刻设备的投资额度,将随着逻辑节点的代差,指数级增加

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是正品,速度快,刻盘稳定,稳定才是王道,不会坏盘,很满意。买给客户的,对方很满意,刻录速度比较快,声音小,很实用

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