在测试中,进行到第三次曝光时,晶圆的良率已经降低到了一个相当低的值,甚至有时候会低于20%了
如果进行第四次曝光,估计良率会低到离谱,至于第五次、第六次,根本不用想了,良率会接近于0%
目前像ASML的DUV光刻机,一般最多也只进行两次曝光,很少进行多次曝光,因为会大幅度的降低良率,造成成本上升,这是得不偿失的
超级好的光速啊,十年前买的一个一直都在用,用不坏的先锋,还会再买这个牌子的。。。。
刚收到了就使用,非常好用,接上就能用,方便好用,质量保证。物流给力。宝贝性价比很高,质量做工很好,安装简单方便,接口兼容性比较好,推荐购买!
先锋品牌值得信赖,一直都是在京东购物,速度快质量好。光驱也是体验很好。读盘速度:很快读盘声音:很静音稳定性能:不挑碟,稳定外形外观:黑色沉稳高大上
非常满意,性价比高,品质很好,赞赞赞!!!俊秀的外表,优雅的气质,卓越的性能,完美。
那么问题就来了, 国产90nm的前道光刻机,究竟能够生产几纳米的芯片,是不是就只能是90nm了?事实上并不是的,在一些晶圆厂的实际测试中,在精度方面,90nm肯定没问题的,同时经过两次曝光,可以得到45nm的芯片,三次曝光最高可以达到22nm左右的水平
在芯片制造的过程中,其它是需要两种光刻机的,一种是前道光刻机,就是将光掩膜板上的电路图,记录到涂了光刻胶的晶圆上的光刻机,因为这是前道工序,所以称之为前道光刻机
还有一种是后道光刻机,用于芯片后期的封装,在芯片制造过程中,属于后道工序,所以叫后道光刻机
装上去试了一下。运转声音很静,读碟很快,比以前那个好多了。好用,以前一直都是喜欢用先锋刻录机,非常好用,京东购买,还便宜,性价比高。
据称,目前国内正在研发28nm精度的光刻机,那么经过2次曝光后,能够达到14nm,然后可以尝试性的进行第三次曝光,然后有可能迈入7nm
当然,以上只是猜测,因为精度越高的光刻机,多次曝光的难度也就越高了,一切还得看真机的实测才行
前道光刻机对光刻机的精度要求非常高,所以会有按精度分的DUV、EUV等光刻机
而前道光刻机方面,自然ASML是老大,毕竟EUV光刻机,只有ASML能够生产,而国内自研的前道光刻机,分辨率显示还是90nm的
那么有没有可能继续进行第4次曝光,然后就实现了11nm,再进行第5次曝光,然后实现10nm以下呢?理论上可以,但实际不行
贵州12寸光刻机厂生意兴隆
老牌子,收到货后就装机了,和主机很匹配,办公用方便,主要用于看资料和刻资料盘。 然后试用了一下,运行速度快,安静。 先锋刻录机真的很不错,价格也实惠。 产品包装的很好,比较满意,有需要的值得购买!尤其办公使用,很好。
能生产几纳米的芯片?答案或是22nm
使用了一下,外形挺简洁,放DVD很好用,刻录暂时没用。安装简单,读取速度快,希望可以使用期限可以久一些。京东得物流依旧是很不错
外观好看,经济实用 品质优良, 结实耐用,价格实惠,使用满意,特别好用,非常棒,名牌,质量很好,拷贝静音,值得推荐。