用于大批量制造，以创建先进的微芯片（7 nm、5 nm 和 3 nm 节点）高度复杂的基础层，并支持新颖的晶体管设计和芯片架构
日前，在 2022 SPIE 高级光刻会议上，ASML 介绍了 EUV 的最新进展
根据 ASML 最新消息，新款 EUV 光刻机正在研发中，NA 将从 0.33 增加到 0.55（NA 是光学系统的数值孔径，表示光线的入射角度），2nm 工艺的芯片都将依赖其实现
另据韩媒 Business Korea 报道，三星电子正计划通过在未来三年内打造 2 纳米 GAA(Gate-all-around)工艺来追赶台积电
随着 0.55 NA EUV 光刻机量产提上日程，芯片厂商的“2nm 工艺战”也将彻底打响
ASML 官宣新一代光刻机研发进展
读盘速度：先锋存储名不虚传啊，原来用的也是先锋的，用了有10年，终于退休了 读盘声音：声音很小，几乎听不到 稳定性能：稳定性超强，刻录CD非常快，音质也超棒 轻薄程度：外置光驱吗，都一样薄厚，没有太厚的 外形外观：外观就是比原来的降了档次，原来的机器都是金属外壳，现在的是工程PVC的，更轻一些 产品包装：产品包装结实，原封装，没动过，全新
京东快递，一如既往的质量保障，送货速度快，快递员态度好，继续支持。已试过，静音速度快，这是我第一个外置光刻一体光驱，真心不错，值得推荐
而从工艺技术和制造成本综合因素考量，EUV 光刻机（极紫外光刻）被普遍认为是 7nm 及以下工艺节点的最佳选择
目前，在全球范围内仅有荷兰的 ASML 公司能供应 EUV 光刻机
据介绍，ASML 的 EUV 光刻技术使用 13.5 nm 的波长（几乎是 X 射线范围），在微芯片上形成精细的线条
即便如此，0.55 NA EUV 光刻机还是得到了芯片厂商的火热预购
毕竟，这是研发 2nm 工艺的芯片的必选项
在各大芯片厂商中，英特尔的速度最快
今年 1 月 19 日，英特尔向 ASML 订购了最新款高 NA EXE:5200 光刻机
掌上激光刻机
”此外，根据台积电早前消息，公司今年资本支出为 400 亿美元至 440 亿美元，多数用于先进制程
此次三星若能争取到更多 EUV 光刻机，则今年至少可获得 18 台，不过三星未详细说明此次获得的“额外”EUV 设备内容
很好，刻碟顺畅，外观经典，包装标准，安装简单，配件齐全，质量可靠，经久耐用。东西很不错，试用了后觉得效果很好，快递速度也很快，收到后整体满意。
购买京东的产品有很多次了。这次购买的刻录机，质量非常好。刻录效果也不错。跟以往买的东西基本差不多。 先锋的客户机跟其他的相比，一是质量非常过硬。我用的时候，基本上没有磕坏过。第二是稳定性很好。每次都是一样的效果。京东的产品都是正品。发货速度快。价格也优惠，特别是出现问题的时候，可以很方便的解决，真正做到了一个大企业应该有的样子。 我是评价官，希望我的评价对你有所帮助。谢谢，也希望我的评价能够成为优质评价。