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光刻机_雕刻机_曝光系统

从“造不如买”到集中力量攻坚,asml光刻机做什么用的

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从“造不如买”到集中力量攻坚

  虽然迫于美国的压力荷兰无法向中国出售先进制程光刻机,但庞大的中国市场,让ASML无法拒绝其诱惑力,数据统计显示,在2022年第一季度,ASML共交付62台光刻机,其中21台DUV都成功销往中国

  【“求人”不如“求己”】  回顾中国的半导体行业,光刻机的技术发展历程可谓是曲曲折折,但这也无时无刻在警醒着中国,不能长期靠“外来力量”,究其根本还是要靠自己

  其次,就算拥有精密零件制造业基础,在光学系统、组装技术等知识、技术等方面也是如今光刻机技术突破的一大难题,因为这一系列的技术知识关乎着一个光刻机能否正常运行以及生产和产出

  虽然中国随着近代发展,新兴产业在大量扩展,但是基层技术知识与创新理念却并未进行细耕,也就导致中国的光刻机技术出现一定的差距,这也就成为了目前中国光刻机技术想要进一步突破的关键

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  基础实力差,加上外国这样的“绊脚石”,让中国不得不主张自行研发

  1977年,历经10年之久的中国经过自己的不懈努力,上海光学机械厂成功制造出JKG-3型接触式半自动光刻机

  这也代表着此时的中国半导体产业正在紧跟外国的科技发展步伐,然而真正距离美国制造出的光刻机已经相差近二十年,并且就在同年,美国再次推出了真正的自动化光刻机

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  此时的中国就已经意识到了其重要性,快速向半导体产业进军

恰巧2000年的中国,正是大量爱国人士回国创业时代,他们带着外国的先进知识和经验,进一步促使中国半导体的产业得到光速发展

  2007年,上海微电子宣布研制出90nm的分布式投影光刻机,但由于大多数元器件来自国外西方国家再次禁运,导致无法量产

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因此我国的光刻机技术水平仍然需要不断努力突破,才能弥补这个差距

  【中国光刻机的三次“突破”】  在1952年,我国步入计算机科研,国家也正是成立了计算机科研小组,而此时的中国相对于外国来讲,GDP仍然差距较大

  直到1956年,我国正式开始重视半导体产业,并且成功研制出第一只晶体三极管,从此中国进入半导体的新纪元,然而此时相对世界上第一只三极管的诞生已经过去了长达9年的时间

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