众所周知,在当前的芯片制造环节中,光刻是其中一个必不可少的重要环节
而光刻就需要用到光刻机,而7nm及以下芯片的光刻时,就需要用到EUV光刻机
同时EUV光刻机成本非常高,一台EUV光刻机售价超过10亿元,最新的0.55数值孔径的EUV光刻机,价格更是超过3亿美元(20亿元)
EBL电子束光刻机,大家可能熟悉了,前段时间美国公司Zyvex,就搞出了一台电子束光刻机(EBL),并制造了768皮米(0.768nm),不过这种光刻方式速度慢,不可能用于在规模芯片制造
而纳米压印光刻技术,目前被佳能押注,目前佳能已经能够提供NIL光刻机,比如东芝,就一直想用NIL光刻机来生产NAND闪存,同时在NIL光刻专利中,佳能遥遥领先
先锋蓝光刻录机非常好,物美价廉,很实用,物超所值,质量还是不错的,刻录很方便,三步就像U盘一样,直接拖拽就可以刻录了,不需要非常麻烦的操作,也不需要下载刻录软件,而且可试用的光盘范围比较宽广
这对于一般的晶圆企业而言,是不可承受的成本,所以一直以来,业界都探讨EUV光刻机的替代方案
目前已经被确定的替代EUV光刻机的方案已经有三种,分别是1、纳米压印光刻(NIL);2、直接自组装(DSA)光刻;3、电子束光刻(EBL)
当然,目前NIL光刻机还不能与EUV光刻机相比,NIL光刻机远远达不到EUV的精度,但未来能可就说不准了
DSA光刻,目前没有一定特定的厂商在下注,就像佳能对于NIL技术一样
但如下图所示,在NIL、EUV、DSA三大光刻机上,巨头们都早已布局了
读盘速度:很快哦 读盘声音:很小哦,静音呢 轻薄程度:一般哦 外形外观:很靓哦,总体满意
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而台积电、三星这两大晶圆巨头,则是NIL、EUV、DSA三大光刻技术,都是做了准备,不过EUV光刻的专利相对多一点,再是NIL,最后是DSA
蔡司作为EUV光刻机的重要供应链,主要还是发务EUV,专利上占到了353件,而NIL也有38件,DSA则为0
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正被台积电、佳能等下注
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因为发现别的品牌读盘能力都有不足,选了很多款,最终发现还是先锋的适应性更好!买了,确实不错!之后再买,就这个牌子了,店家发货很快,收藏店家,以后常来!
中国的光刻机生产技术
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