光刻机为啥这么难造?比原子弹还稀有
ASML的EUV光刻机简单来说，光刻机算得上是凝聚了各国人才心血的产物，其原材料来自五湖四海
而荷兰和日本虽然已经在这个领域独占鳌头，但是也无法实现“整机国产化”生产，依旧需要全球上下游产业链的供给和支持
上世纪我国第一颗原子弹爆炸成功之后，世界为之震惊，国人也为此自豪
如今时过境迁，在岁月洪流的推动之下，出现了一种比原子弹还稀有的东西，它就是光刻机，其制造难度属于“地狱级别”
为什么光刻机如此难造？因此到目前为止，全世界仅有两个国家掌握了制造光刻机的主流技术
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光刻机的内部结构精密复杂就用荷兰阿斯麦尔公司制造的EUV光刻机来说，这个光刻机中有10万多个零件，其中90%的关键设备都来自其他国家，该公司只负责整机设计和各模块集成
可以看出，想制造光刻机仅有核心技术是不够的，因为许多零件都要依靠进口，在这种情况下，想独立制造，肯定是极难做到的
买了三个光驱，反馈都很不错，声音小，噪声小，刻盘的速度很快，跟之前的光驱比的确不是一个档次，之前光驱识别光盘都很困难，这个很快就能识别出来，真的是大赞。京东速度还是一如既往地快，让人赞不绝口，以后还是继续支持京东?
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相信大家都有感觉，现在的芯片与从前的芯片相比起来，不仅在性能方面有了很大的提升，就连“个头”也是在做减法，而这其中的的奥秘就在于“光刻机”
光刻机种类示意图它对可制造材料有着丰富的兼容能力，且能在“纳米尺度”对器件任意的几何构型都有一定的支持能力，使得小小芯片当中容纳的晶体管数量越来越多
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最好的光刻机
资料显示，从1968年半导体IC由实验室走向工业大生产算起到现在，集成度提高了约百亿倍，最小特征尺寸图形的加工线条宽度缩小到原来的约1/10000
一张小小的芯片就含有几十亿个晶体管当然作为一项可以与原子弹制造比肩的高新技术，光刻机的发展也是经过长期积淀的，所以根据所用光源的改进以及工业创新，光刻机前后经历了大约“5代产品”
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