这种外置光驱非常好用，买来刻录cd用的，用完可以带走。非常好的一款刻录机，大品牌，值得信赖，而且这个也比较专业吧！
中国能否造光刻机
买来用上了，很合适，这是我第二次买这个刻录机。很是信任。 读盘速度：很快 读盘声音：声音较小。 稳定性能：刻盘很方便。 外形外观：外形包装也很美观简约等等。反正就是喜欢。
很好很满意，读碟流畅，之前买的华硕挺挑碟的，正版碟都读不出，这款棒棒的，刻录倒不常用，用移动硬盘多，暂时没有测试
据称，目前国内正在研发28nm精度的光刻机，那么经过2次曝光后，能够达到14nm，然后可以尝试性的进行第三次曝光，然后有可能迈入7nm
当然，以上只是猜测，因为精度越高的光刻机，多次曝光的难度也就越高了，一切还得看真机的实测才行
相信品牌！机子看起来很简约，耐看，用起来也非常好用！店家快递很快，包装也很好，光驱还没用呢，看着无划痕，新品应该是！等用上再看看
和联想办公电脑完美兼容。刻录光驱所用CD-R(即英文的***pact Disc Recordable)盘的容量一般为700**.它上面所记载资料的方式与一般CD光盘片是一样的，也是利用激光束的反射来读取资料，所以CD-R盘片可以放在CD-ROM上读取，不同的是CD-R盘可以写一次。这次买的先锋老品牌，和Nero10.0软件完美兼容，非常稳定，快。价格也很便宜，性价比非常之好了。
能生产几纳米的芯片?答案或是22nm
那么问题就来了， 国产90nm的前道光刻机，究竟能够生产几纳米的芯片，是不是就只能是90nm了？事实上并不是的，在一些晶圆厂的实际测试中，在精度方面，90nm肯定没问题的，同时经过两次曝光，可以得到45nm的芯片，三次曝光最高可以达到22nm左右的水平
在测试中，进行到第三次曝光时，晶圆的良率已经降低到了一个相当低的值，甚至有时候会低于20%了
如果进行第四次曝光，估计良率会低到离谱，至于第五次、第六次，根本不用想了，良率会接近于0%
目前像ASML的DUV光刻机，一般最多也只进行两次曝光，很少进行多次曝光，因为会大幅度的降低良率，造成成本上升，这是得不偿失的
使用了几次，才来评价，全五星全五分好评！质量不错，读盘速度挺快，借给别人刻盘过。相信先锋品牌的质量，相信京东自营货物品质。
前道光刻机对光刻机的精度要求非常高，所以会有按精度分的DUV、EUV等光刻机
而前道光刻机方面，自然ASML是老大，毕竟EUV光刻机，只有ASML能够生产，而国内自研的前道光刻机，分辨率显示还是90nm的
那么有没有可能继续进行第4次曝光，然后就实现了11nm，再进行第5次曝光，然后实现10nm以下呢？理论上可以，但实际不行
在芯片制造的过程中，其它是需要两种光刻机的，一种是前道光刻机，就是将光掩膜板上的电路图，记录到涂了光刻胶的晶圆上的光刻机，因为这是前道工序，所以称之为前道光刻机
还有一种是后道光刻机，用于芯片后期的封装，在芯片制造过程中，属于后道工序，所以叫后道光刻机
很好，刻碟顺畅，外观经典，包装标准，安装简单，配件齐全，质量可靠，经久耐用。东西很不错，试用了后觉得效果很好，快递速度也很快，收到后整体满意。