不黑不吹
目前网络有一种声音，那就是我们必须自研出EUV光刻机，只要自研出EUV光刻机，ASML和美国就卡不住我们的脖子了，芯片就再也不用愁了
但真的自研出EUV光刻机，我们就能够制造出7nm芯片了么？在我看来，仅靠EUV光刻机，是远远不够的，还差得远呢
很好用，不愧是老牌子，声音小，稳定，读碟和刻录都不挑碟，真值得购买！京东客服很给力，保修期内维修时间超过15天都没反应，直接联系给换新了！感谢感谢！后续有需要还会回购的
到货后马上拆机更换，读取速度也很快，刻录效果以后再试，一直用这个牌子，效果不错，东西还是不错，好用，就是包装盒是脏的，不舒服
中国在荷兰订制光刻机
很棒的机器，收到后就连刻四张CD，全部成功，播放音质震撼，和原版没有区别。上午到货，自营的商品物流就是快。放了一张盘，声音很小，很安静，手里没有空白盘，未尝试刻录功能。
收到货好几天了，在用这款writer，感觉还不错，已经刻了一张，性能不错，而且方便携带，包装还好，物美价廉的好商品！
而前道工序更是重点，有至少8个工序，分别是扩散、薄膜沉积、光刻、刻蚀、离子注入、CMP抛光、金属化、测试
而这里也要用到各种设备，众多的材料，光刻机只是其中的一种设备，这些设备大多和光刻机一样，是有精度要求的，分别要求达到7nm
综合起来看，要想芯片制造水平达到7nm，需要EDA支持7nm，半导体材料也是支持7nm，半导体设备也支持7nm……而EUV光刻机只是其中的一种设备，就算我们突破了，美国或其它国家一样能够在其它设备、材料上卡住我们，因为目前国产的半导体材料、半导体设备，很多在28nm甚至更成熟的工艺，达到7nm的少之又少
还有一些材料，也需要达到7nm，比如光刻胶，7nm及以下芯片制造需要的是EUV光刻胶，但我们自给率为0
后道工序，这里主要涉及到的是封测，相对要求会低一些，但也是有工艺精度要求的
目前仅是EUV光刻机卡得最为明显，卡得最为关键，最为大家所知而已，并不意味着其它设备或材料不卡了，一旦EUV光刻机我们有了，美国在其它设备或材料上就会卡住我们的
非常好，一开始没用起，找售后了解后用起了，效果非常棒，售后很热情，必须五星评起
还没安装，连电测试了一下没问题。这两天装起来试试。工作需要刻盘，先锋算是光驱里边老牌子了，希望可以好用一点，用久一点。总之不错，很满意。
按照机构的数据，2022年28nm及以下的芯片占全球所有芯片的比例还高达75%+，所以我们现在的重点不是先进工艺，而是全产业的国产化率，同时提升产能，先满足国内成熟工艺的需求，先解决了这些问题，再向先进工艺前进，这样才走得稳健
光驱外观好看，包装店家很用心，上机试了一下，读取光碟内容很快，播放没有卡顿，特意用了几天才来评价，希望对大家有所帮助 读盘速度：快 读盘声音：没有声音 稳定性能：非常稳定 轻薄程度：非常薄 外形外观：漂亮，高档大气上档次 产品包装：完美
很好，经过测试质量很好，刻录光盘很快。刻录稳定，一直很多年都在用先锋的，没有问题！非常满意