但是这么多重点，主要应该抓哪些呢？最终四个国际上发展很快，而我国还处于空白的领域，成为了最重要、最紧急的“四大紧急措施”，其中之一，便是半导体
关于我国最早的光刻机，有一种说法是1966年，中国科学院微电子研究所的前身——109厂与上海光学仪器厂协作，研制成功我国第一台65型接触式光刻机
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比如清华大学的徐端颐团队，成立之初多达数百人，有技术超群的钳工、搞精密机械加工的师傅，还有搞计算机控制的技术工人，但是没有一个人懂光刻机，徐端颐团队研制新设备，全部图纸都要自己设计，全部零部件都是自己加工制造，一切从零开始，边干边学
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虽然基础薄弱、一切从零开始，但是在无数先辈的日夜努力之下，中国光刻机还是赢得了一个比较好的起点
真正尴尬的是，虽然有了国产光刻机，但是科研成果不代表批量化生产的能力，产业化一直停滞不前
1977年7月，人民大会堂举行的科教工作者座谈会上，半导体灵魂人物王守武直言：“全国共有600多家半导体生产工厂，其一年生产的集成电路总量，只等于日本一家大型工厂月产量的十分之一
面对今天的困境，人们可能很难想象，中国不仅曾经独立研发出光刻机，把与美国的差距缩短到只有7年，而且还是在国外对我们封锁禁运的情况下完成的
今天，我们还能做到吗？1开局新中国成立之初，百废待兴，全国科研人员加起来不过5万人，难以满足建设需要
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国产光刻机的艰难往事asml光刻机每台1亿美元
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回顾中国光刻机过去60年间的发展，前20年，在科研人员夜以继日的攻关下，中美光刻机差距被缩短到了7年，中间十几年，因为种种原因，国内外的光刻机差距越拉越大，直到2000年后，面对断供的威胁，以及与国外的恐怖差距，国产光刻机再次开始奋力追赶
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