所以，我们认为 ASML很难离开 DUV光刻机，特别是中国， DUV光刻机主要集中在中国，而 DUV光刻机也是中企最关心的问题， ASML很有可能会在 DUV上取得重大的进展，一旦 ASML退出，那么结果可想而知
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也就是说，28 nm的光刻机是可以预期的，根据 ASML的发展历程来看，28 nm到10 nm的光刻机，最快也要5年，28 nm是光刻机的关键点，而28 nm是最重要的环节，也是最好的选择，也是最好的选择，只要能将28 nm以上的技术全部攻克，那么接下来的提升就简单多了
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中国为什么不自己研发光刻机
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我们前面说过， ASML很清楚获得这个市场是多么困难，以及一旦丧失了它所带来的影响，我们可以看出，荷兰后来又一次地重申，他们将维护自身的权益，并且拒绝接受美国的要求，而荷兰对外贸易和发展合作部长则说，荷兰将对 ASML公司出售给中国企业的问题作出自己的判断
华为公布光刻机计划后
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华为公布计划后，ASML怂了也许大家对此并不熟悉，尽管荷兰 ASML公司占据了日本的一部分市场，尼康、佳能等公司占据了一定的份额，但由于国内的竞争越来越激烈，美国的公司也相继破产，被兼并，最后才有了 ASML、尼康、佳能三家公司的格局
有兴趣的朋友可以去美国知识产权中心网站查阅一下 EUV的专利，你会发现，我们公司、科研机构、大学等都拥有 EUV的专利权，你可以去上海光机所看看， EUV光刻机的招聘工作，也是最近才开始招人的
国望光电在年初就已经在竞标无尘室内，国望是国内主要的光刻机曝光设备，各位可以看看下面的图片
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