2nm、1nm全靠它!High-NA EUV光刻机2025年末将正式商用
归根结底还是我们的晶体管密度需求仍在不断攀升，但我们需要明白这个需求并不是线性增长的
新世纪的20年代，很可能成为深度技术发展的黄金十年，比如边缘AI芯片、基于CMOS的NIR/SWIR成像器、光电集成的片上激光雷达等等
这次买先锋的DVD刻录机是因为觉得老牌子品质有保障，还送了一根SATA数据线，安装也很便捷，已经安装用上了，读盘速度挺快的，也很顺畅！刻录暂时还没刻过就先不做评论。尤其要夸赞下京东的物流，真的超级快，早上9点不到下的单，下午4点不到竟然已经送达了！在这个疫情特殊时期还能这么快的速度真的让我都感觉诧异了！京东物流越来越给力了！非常满意的一次购物经历！
京东购物真方便，一直购买中 读盘速度：超快，识别光盘也不错，兼容性能超好。 外形外观：黑色，自用真好，看着舒服。。 轻薄程度：小巧轻便，放在笔记本包里也正好，方便我带出去 产品包装：京东物流快，包装也好，没有损坏，给快递师傅点赞。 读盘声音：读盘声音轻，能接受。
你可以说推动工艺发展最大的功臣是智能手机芯片，但其他应用对高密度的需求同样不可小觑，因为这对它们来说也就意味着更高的存储容量和带宽、更高的算力
Intel、台积电已下单荷兰半导体设备厂商ASML（阿斯麦）正在全力研制划时代的新光刻机high-NA EUV设备
3纳米代工市场规模2026年将达到242亿美元，比今年（12亿美元）增加20倍以上
三星电子、台积电、英特尔等主要半导体企业开始引进EUV设备，随着工程技术的发展，预计3纳米将成为核心先进工艺
特别是用于生产制造2nm、1.8nm等制程的High-NA EUV光刻机初期版本将于明年年末引进，预计2025年末将正式商用
ASML明年交付首台High-NA EUV光刻机ASML首席技术官Martin van den Brink日前受访时表示，目前公司正有序推行其路线图，在EUV之后是High-NA EUV技术
如今的深度学习在大规模模型的爆发下，所需算力每几个月就会翻一番，但现在能效比已经成了优先级更高的指标，要想同时满足性能和算力的话，主要方法有四种：一是换一种系统级计算架构，比如DSA架构；二是充分利用3D设计，也就是我们常说的3D封装和堆叠技术；三是从晶体管架构上创新，譬如纳米管、纳米片、CFET和原子沟道等；第四个则是目前看来最快捷的一条路线，通过光刻技术的发展直接提升密度
荷兰会不会用光刻机换口罩
读盘速度：没有具体的数据，反正挺快的。 读盘声音：很安静，试刻录了一个音乐CD盘，写入很快，放到音响上，播放没有问题。 稳定性能：用了很多个先锋了，质量信得过。旧的因为接口不同，所以买了个新的。
第二次买了，上次5个，这次又为单位上买了5个，上次买的评价比较好，读盘能力强，刻盘很稳定，国产品牌中很不错的产品，现在用光驱的时候越来越少，外置光驱价格也降了不少，有时要用的时候又找不到，常备几个以备不时之需。