有许多朋友问我,国产5nm光刻机什么时候可以造出来,但是我要告诉大家,什么7nm光刻机、5nm光刻机,其实这样的说法是不准确的,在这个世界上,其实并不存在什么5nm光刻机
光刻机是什么什么是光刻机,利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光,光刻胶见光后会发生性质变化,从而使光罩上的图形复印到薄片上,从而使薄片具有电子线路图的作用
无论是28/45/65/90nm和0.18um这些节点均对第四代浸没式光刻机有着应用需求
终端市场推动了成熟制程的产品越来越多,比如汽车、IoT、传感器、功率、MCU等,成熟制程市场空间不断增长
不过有一个坏消息就是, 美国正在向ASML施压,希望他们禁止销售最先进的第四代浸没式光刻机给中国,而这相比于EUV极紫外光刻机,所造成的影响将更为严重
这也是为什么其技术难度高的原因,一个看似简单的原理,在超高精度的制约下需要结合光学 材料 控制 电子 机械化学等最顶尖的技术,才能最终完成这以类人历史上几乎最精密的机械
光刻机的零件90%使用了世界最先进的加工技术,甚至一些接口都要工程师用高精度机械进行打磨,尺寸调整次数更可能高达百万次以上
光刻机与口罩
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读盘速度:读盘速度是非常的快,光盘放进去之后,机器反应非常灵敏。? 读盘声音:读盘的声音比较小,而且声音很稳定。? 稳定性能:性能很稳定,读盘的时候声音很稳定。 轻薄程度:这不是轻薄的光驱,这种光驱现在很难买了。幸好先锋还在生产。这一种平置式要比那种超薄的效果要好。? 外形外观:做工非常好,一看就是大厂的东西。? 产品包装:包装非常好,一看就是大厂的东西。让人放心。
为什么说
一台 EUV 光刻机重达 180 吨,超过 10 万个零件,需要 40 个集装箱运输
中国为什么还造不出最顶级的EUV光刻机很多朋友又会说了,为什么国外可以造出如此顶级的光刻机,中国不可以
ASML能够造出EUV极紫外光刻机,还要多亏了美国
美国联合欧洲,出动了国家三大实验室,联合美欧160多家科研单位耗费了十几年才攻克了EUV的理论难题
而ASML在制造的时候,可以获取到全球最顶级的零件,光源采用美国的Cymer,透镜是德国的蔡司,2010年,ASML向台积电交付首台EUV研发设备TWINSCAN NXE:3100系统
本来准备装电脑上的,结果发现机箱没有光驱位,索性加一个光驱盒,拿来当外置光驱,没想到速度还挺快的,声音很小,比较安静
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