6月16日，台积电在2022年度北美技术论坛上，官宣将推出下一代先进制程N2，也就是2nm制程
2nm来了，终结FinFET一直以来，包括7nm、5nm在内的芯片制程都采用的是FinFET晶体管技术
专门买的工作用，日常家用主机很少会选装了。首先国庆假期物流同样很快，然后商品包装完好，货是全新的，这次购物很满意
作为全新的芯片制作工艺平台，N2制程的核心创新在于两点：纳米片电晶体管（Nanosheet）与背面配电线路（backside power rail）
台积电的「全环绕栅极式纳米片电晶体管」（GAA nanosheet transistors），晶体管的通道在所有四个侧面都被栅极包围，从而减少了电能泄漏
这在当下晶体管体积越发接近原子体积时，将会越来越突出
而且台积电「环绕栅极式纳米片电晶体管」的通道可以加宽以增加驱动电流并提高性能，也可以缩小以最大限度地降低功耗和成本
为了给这些「纳米片电晶体管」提供足够的电能而且避免漏电损耗，台积电的N2制程使用背面配电线路（backside power rail）
双光束超分辨光刻机
这项研究成果由台大电机系暨光电所教授吴志毅，与台湾积体电路和MIT研究团队共同完成，已在国际期刊Nature上发表，有助实现半导体1nm以下制程挑战
可以说，台积电1nm也是未来可期
那么，当前各家在先进制程之争上怎么样了？「三巨头」先进制程之争台积电，与英特尔、三星并称半导体制造业「三巨头」
物流速度很快，当天就到货了。性能也不错！十几年前的刻录盘都能读出来！！以前买过，用了很多年，突然不好了，干脆再买个新的吧！性价比很高！
台积电抢攻2nm王冠!ASML最强光刻机加持
在此之前，台积电将会使用有N3E、N3P和N3X等3纳米制程的改进版生产芯片
ASML业界最强光刻机加持除了公布2nm先进制程，台积电会议上还宣布，将在2024年，引进ASML（阿斯麦）下一代最先进的光刻机
此光刻机为「高数值孔径极紫外」（High-NA EUV）光刻机
读盘速度：快 读盘声音：小 稳定性能：相当好 轻薄程度：都是这个尺寸 外形外观：工艺精湛 产品包装：很好
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