再有就是日本和中国在先进芯片技术方面的进展,日本芯片行业一直都在研发绕开EUV光刻机的芯片制造工艺,它此前取得成功的NIL工艺已被铠侠采用,如今NIL工艺已突破10nm;中国则在光量子芯片技术方面取得进展,中国已有企业筹建光子芯片和量子芯片生产线,一旦商用将让ASML的光刻机无用武之地
摊牌了?ASML开始硬气了
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ASML此前几乎完全遵从美国,然而美国的回报却是美国芯片企业的背叛,美国芯片企业美光研发了绕开EUV光科技的1β工艺,美国光刻机企业Zyvex公司研发的电子束光刻机更是将终结EUV光刻机,这更是会要了ASML的命,ASML的感觉就是它全力支持了美国,而美国企业却不让ASML活命