被美国彻底打醒!俄罗斯全力以赴研发7nm光刻机
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半导体工业的历史准确来说应该出现在冷战时期，正是冷战的背景促使了半导体工业不断向前发展，其中苏联和美国的方向还各自不同，呈现了两种截然不同的半导体工业体系发展过程
今天的半导体工业的基础得益于晶体管的发展，相比之下苏联在晶体管的制造工艺上并不比美国落后多少，可在集成电路出现后，苏联在半导体工业发展选择方向上的错误便显露了出来
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俄罗斯用光刻机换口罩
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尽管光刻机这种设备非常之重要，可是能够生产光刻机以及配件的国家却是屈指可数的，正因为如此美国在能在今天发挥自己产业链主导的地位，来制裁俄罗斯，防止俄罗斯依靠高端芯片来扩充自己的军备力量，这让俄罗斯不得不选择了自主化生产光刻机的道路，于是俄罗斯宣布将自主研制7nm光刻机，还表示将在2028年投产，这一度令不少西方国家大感惊讶
因为电子工业发展没有及时发展相关的工业软件，所以即便能够生产出功能一致的光刻机，也会因为没有相配套的软件控制光刻机，导致光刻机成为了一套无用的机器
这一点在被中国相关部门重视后，很快组织了多场研讨会议，准备自主研制相关的工业软件，让中国在工业软件上不再受限于人
在光刻机的核心部件激光光刻仪器方面，俄罗斯曾独立开辟过氖氦激光发射器，与西方国家普遍采用的二氧化碳激光器走出了一条完全不同的道路，于是俄罗斯想要独立研制光刻机其实并不是一件难事，相反俄罗斯目前最缺的却是时间和经济发展，所以这让西方国家更加扩大了对俄罗斯的制裁力度，以压迫其放弃当前的科研计划
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一味想将半导体工业扑在军事上的苏联当局，选择的电子管微型化路线，显然是不适用于集成电路发展的，所以在集成电路的竞赛上，美国取得了方向山的胜利，这让美国将优势保持到了今天
7nm光刻机的工艺难度并不低，这让今天很多工业基础深厚的国家都一定能够独立建造出来，俄罗斯的高调宣布在不少西方国家眼里不过是一种吹牛皮罢了
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