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光刻机_雕刻机_曝光系统

ASML光刻机有多牛:EUV占100%,光刻机与口罩

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至于佳能尼康,则主要集中在最低端的还有UV(i-line)光刻机领域,在次高端的DUV领域,都表现一般

至于国产光刻机,虽然可以用于90nm,但其实晶圆厂们用得非常少,并且主要不是用于前道,也就是晶圆制造这一块,更多是用于后道,比如封测等领域

ASML光刻机有多牛:EUV占100%

众所周知,目前所有的芯片制造,均要经过光刻这么一个工艺,所以光刻机是必不可少的半导体设备

而光刻机与芯片的工艺是相对应的,比如EUV光刻机用于7nm及以下,DUV光刻机用于7-180nm

还有UV(i-line)光刻机,主要用于0.35um工艺

很好,轻薄,声音也小,速度不错,还没有拆开用,现在计算机配光驱的不多了,买个外置的特殊场合备用,很是不错

数据显示,全球一共售出478台前道光刻机,被ASML、尼康、佳能瓜分了

其中ASML拿下了其中的309台,占比为65%,接近三分之二的市场

而尼康为6%,佳能为29%

但是在高端EUV光刻机领域,ASML占据了100%的市场,而在次高端的在ArFi和ArF光刻机领域,也分别占据96%和88%的市场

做工不错,手感很好,刻录功能还没使用,应该用到的机会不多。平时主要用于读DVD盘,便携性很好。 纸盒包装上还有温馨提示,再次核对型号是否正确,方便退换货,很人性化。

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光刻机与口罩

当然,目前全球也在研发其它技术的光刻机,比如多电子束直写光刻机(MEB)、定向自组装技术(DSA)、nm压印技术(NIL)等不同新技术也,希望这些技术有所突破,那么我们就不必依赖ASML了,否则真的太难超越它了

而DUV光刻机又分为ArFi光刻机,用于45-7nm;而ArF Dry用于65nm,还有KrF用于180nm等等

目前全球的光刻机厂商,真不多,特别是用于芯片制造的,也就是前道光刻机,全球也就四家,分别是ASML、日本的佳能、尼康、上海微电子

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