用于生产 2nm 芯片的 ASML 新款光刻机预计在 2025 年首次投入使用,对芯片厂商而言,“2nm 工艺战”已经打响
ASML 冲刺 0.55 NA EUV 光刻机对于芯片厂商而言,要想发展先进制程,光刻机是关键设备
收到就试了一下,稳得一批啊,声音也很小。读盘速度:挺快读盘声音:挺小稳定性能:很稳轻薄程度:刚好外形外观:美丽产品包装:简单安全
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英特尔称,公司将成为 ASML 第一台 EXE:5200 的买家
与 EXE:5000 相比,EXE:5200 预计将带来几项改进,包括更高的生产率等等
在最新款高 NA EXE:5200 光刻机的订购方面,台积电、三星也有所动作
三星方面,据韩媒 Business Korea 报道,李在镕 6 月 14 日造访 ASML 荷兰总部时,拜会了 ASML 首席执行官 Peter Wennink 等高管,广泛讨论半导体技术的未来、市场前景及 EUV 设备的供应,并取得“额外”的 EUV 光刻机设备
”此外,根据台积电早前消息,公司今年资本支出为 400 亿美元至 440 亿美元,多数用于先进制程
此次三星若能争取到更多 EUV 光刻机,则今年至少可获得 18 台,不过三星未详细说明此次获得的“额外”EUV 设备内容
为什么要冲刺高 NA EUV 光刻机?光刻系统所能达到的分辨率是光刻收缩的主要驱动因素之一,它主要由所用光的波长和光学系统的数值孔径决定
更短的波长可以打印出更小的特征;更大的数值孔径可以更紧密地聚焦光线,也能够带来更好的分辨率
读盘速度:读盘速度很快,并且很稳定。 读盘声音:声音有一些读盘机械转动的声音不是很大。 稳定性能:性能稳定可靠。大品牌的东西一直在用。 轻薄程度:台式机装机内置光驱的性价比最高的大品牌经典产品。是标准内置光驱的大小。 外形外观:金属外观,结构结实。 产品包装:产品包装牢固可靠完好。内置减震泡沫,防止磕碰。新款产品外包装印刷图案区别于老款。
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ASML 官宣新一代光刻机研发进展
法国光刻机
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