极紫外光刻研究的4个阶段在谈六镜极紫外光刻投影物镜之前，有必要回顾EUV光刻机发展历史，简而言之，在德国蔡司长达30年的极紫外EUV光学研究历史里，有4个里程碑的阶段，包括：1，2003年之前的两镜头曝光装置（MET）；2，2006年的六镜头EUV演示工具（ADT）；3，2009年的第一代六镜头 NA0.33 EUV光刻机；4，明年即将推出的第二代六镜头 NA0.55 EUV光刻机
读盘速度：很好 读盘声音：无声 稳定性能：俱佳 产品包装：完好 外形外观：无损 轻薄程度：满意
一个 6 英寸的 EUV 光掩模结语20年前，ASML的一台ADT工具，便坐落在纽约州立大学理工学院，也就是帕特里克·诺洛（Patrick Naulleau）当时工作的单位
这套价值6500万美元的设备信息，至今仍然挂在纽约州立大学理工学院（SUNY POLY）的主页，这里曾经是世界EUV光刻技术的研发先驱
中国光刻机困局之2022(二):六镜头极紫外光学系统的起源荷兰asml公司光刻机提前一年
王丽萍研究生在读时，于2007年发表了1篇EUV光刻光学设计的论文，涉及两镜头微缩投影系统：《极紫外投影光刻两镜微缩投影系统的光学设计》
王丽萍2007年发表论文在这篇论文中，给出了一套MET工具的光学设计图，其数值孔径NA0.3，分辨力优于32nm、矩形视场为 300μm×500μm
外形外观：精美 读盘声音：静音 稳定性能：稳定 轻薄程度：超薄 产品包装：精美 读盘速度：快
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因此，在大约十年时间里，长春光机所获得了突破性的进展 -- 两镜头MET工具的设计和制造能力，使得我们有机会进行下一阶段的六镜头EUV光学系统的设计和开发
而这也是篇首我们看到的王丽萍教授参与的六镜头投影系统设计和验证工作的基本背景
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美国加州劳伦斯伯克利实验室CXRO主任值得一提的是，2005年发表这篇论文的帕特里克·诺洛（Patrick Naulleau）当年是纽约州立大学的副教授，他现在是加州劳伦斯伯克利实验室CXRO的主管，CXRO实验室正在为下一代NA0.55 光刻机开发关键配套材料