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光刻机_雕刻机_曝光系统

2nm、1nm全靠它!High-NA EUV光刻机2025年末将正式商用光刻机规划

京东快递就是快,昨天晚上下单,第二天上午就到货了,已经安好了,试了一下非常满意。读盘很安静,几乎没有噪音。附送的软件很实用

到货后马上拆机更换,读取速度也很快,刻录效果以后再试,一直用这个牌子,效果不错,东西还是不错,好用,就是包装盒是脏的,不舒服

读盘速度:读取速度挺快 读盘声音:很安静 稳定性能:兼容性好,win10免驱 产品包装:完美 外形外观:大方

为什么需要高NA光刻机从今年发布的不少新品来看,即便工艺没有太大的变化,芯片的性能仍在稳步提升,有的是从架构上找到了创新,有的选择了改善带宽之类的性能

但我们也都能看出,其中有一部分产品选择了走大规模路线,比如苹果的M1 Ultra

一直信赖先锋品牌,做影视传媒的必须用到光驱,非常好用,即插即用,读盘飞快,声音也很轻,速度快,使用稳定,刻dvd和bd都非常好用,没有飞盘,脱离。推荐朋友也用这个品牌,性价比超高,而且几乎也没有声音,稳定用几年不出故障,京东物流速度也非常快,十几年前就用先锋光驱,这也是一中情怀,下次光驱依然还是先锋,就这价钱和这服务,完美!

2nm、1nm全靠它!High-NA EUV光刻机2025年末将正式商用光刻机规划

3纳米代工市场规模2026年将达到242亿美元,比今年(12亿美元)增加20倍以上

目前,三星电子唯一一家宣布成功量产3纳米的企业

三星电子、台积电、英特尔等主要半导体企业开始引进EUV设备,随着工程技术的发展,预计3纳米将成为核心先进工艺

2nm、1nm全靠它!High-NA EUV光刻机2025年末正式商用光刻机规划

特别是用于生产制造2nm、1.8nm等制程的High-NA EUV光刻机初期版本将于明年年末引进,预计2025年末将正式商用

ASML明年交付首台High-NA EUV光刻机ASML首席技术官Martin van den Brink日前受访时表示,目前公司正有序推行其路线图,在EUV之后是High-NA EUV技术

所谓high-NA即高数值孔径,从当前的0.33提升到0.55,从而允许更紧密的电路图案(2nm及以下)和更高的生产效率

据报道,高NA EUV光刻机系统的单台造价将在3亿到3.5亿欧元之间,约合人民币21.95到25.61亿元

ASML正在准备向客户交付首台High-NA EUV光刻机,大概会在明年某个时间点完成

据悉,High-NA EUV光刻机会比现有的EUV光刻机更为耗电,从1.5兆瓦增加到2兆瓦

主要原因是因为光源,High-NA使用了相同的光源需要额外0.5兆瓦,ASML还使用水冷铜线为其供电

自打U盘流行,硬盘容量大了之后,光驱就离我们越来越远了,刻录机也不例外,现在基本很少用到。因为喜爱无损音乐,而CD正是最好的载体,所以空着多年的光驱位又要启用了,当日下单次日即收到,趁孩子睡午觉立即刻了两张盘,刻录能支持最大速度,但我用的是最低速度来,一张CD刻好也只需十来分钟,刻好立即回放读碟,效果棒棒的,这光驱不管读还是读都叫我满意!

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