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光刻机_雕刻机_曝光系统

ArF占88%,光刻机镜头是怎么造的

光刻机镜头是怎么造的

ArF占88%

数据显示,全球一共售出478台前光刻机,被ASML、尼康佳能瓜分了

其中ASML拿下了其中的309台,占比为65%,接近三分之二的市场

而尼康为6%,佳能为29%

但是在高端EUV光刻机领域,ASML占据了100%的市场,而在次高端的在ArFi和ArF光刻机领域,也分别占据96%和88%的市场

孩子幼儿园有很多光盘发下来,笔记本又没配备光驱。网上一搜,外置光驱就选中了这款。从价格上看并不便宜。主要谁买大牌,图省心,毕竟还是需要用长时间的。完美解决问题,连上笔记本就能用。希望能一直用下去。

至于佳能,尼康,则主要集中在最低端的还有UV(i-line)光刻机领域,在次高端的DUV领域,都表现一般

至于国产光刻机,虽然可以用于90nm,但其实晶圆厂们用得非常少,并且主要不是用于前道,也就是晶圆制造这一块,更多是用于后道,比如封测等领域

轻薄程度:比想象中薄,很轻便 外形外观:黑色一体,很漂亮 产品包装:包装很严实 稳定性能:刻录稳定,未失败过 读盘速度:读写速度很快,和介绍一样 发货速度很快,很满意的一次购物。满足预期

ArF占88%,光刻机镜头是怎么造的

读盘速度:读盘速度很快,加持USB3.0。 读盘声音:运行比较安静,比其他声音小点。光盘质量也有影响。 稳定性能:稳定性强,底部防滑。 轻薄程度:轻薄小巧。能放电脑包。 强制开机按钮很惊艳,强制开盖也不用到处找针了。手轻轻一拨就开了,方便极了。

其中ASML是最牛的, 特别是EUV光刻机,仅ASML一家厂商能制,可以说ASML卡住了全球先进晶圆厂的脖子

但事实上,除了EUV光刻外,ASML在DUV领域的光刻机,也是一顶一的,全球没有对手

如上图所示,这是机构统计的2021年全球半导体前道光刻机销售情况表,上面列出了3大巨头,在各种光刻机上面的销售数据

当然,目前全球也在研发其它技术的光刻机,比如多电子束直写光刻机(MEB)、定向自组装技术(DSA)、nm压印技术(NIL)等不同新技术也,希望这些技术有所突破,那么我们就不必依赖ASML了,否则真的太难超越它了

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实用主义,虽然弹出来那种感觉很山寨,但是好歹没什么问题,随便刻录了一张CD,效果很不错!

众所周知,目前所有的芯片制造,均要经过光刻这么一个工艺,所以光刻机是必不可少的半导设备

而光刻机与芯片的工艺是相对应的,比如EUV光刻机用于7nm及以下,DUV光刻机用于7-180nm

还有UV(i-line)光刻机,主要用于0.35um工艺

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