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2022年5月《光刻技术》专刊封面《光刻技术》专刊这期专刊一共发表30篇特邀综述文章，涵盖了包括EUV光源、计算光刻、照明系统、投影物镜检测、光刻胶、浸液系统、准分子激光、光刻机运动控制台等光刻机研究的方方面面
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2，除了类似的综述论文所需资料外，会包含研究人员和研究团队的分析，研究人员的背景、研究团队的组成、稳定性，以及他们的技术能力，是分析、预测项目推进的重要组成信息；介绍俄罗斯的LPP EUV光源研究员康斯坦丁·N·科舍列夫3，在研究人的因素之上，进行详细的工业基础、技术背景调查，以此了解每一项组件所依赖的外部条件，如软硬件、材料、资源、资金等，以此判断实现每一个环节大概所需要的时间，并整体综合判断项目进度
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谁说芯片要光刻机小说
简单翻阅这些2022年5月最新的中文资料，也可以验证前文论述中所涉及到的资料范围的准确性、及时性、全面性
例如，我在此前多次介绍美国极紫外光学制造商Zygo的技术背景
美国极紫外光学制造商Zygo介绍通常这些三要素的分析，是分散在我不同的帖子里
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先锋的光驱还是不错的，外观设计简朴大方黑色非常耐看，大小正合适，使用了一下，使用正常没问题。另外，京东自营配送速度很快，包装完整无缺，昨天下单，今天中午就收到货了。
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解读光刻机困局之2022(三):目前国内光刻研究的整体进度评估
因此，很显然，这些资料已经充分地披露了最新的光刻机研究项目的进展，以这些资料作为背景做中国的光刻机困局的分析，是充分的、也是有时效性的
中国光刻机困局研究三要素中国光刻机困局的分析，基于以下三个要素：1，首先整理技术发展的真实资料，它包括中外论文、会议、报告、专利、新闻资讯等
极紫外光刻光源论文：上海光机所和上海大学微电子学院合著极紫外光刻光源光机所和上海大学微电子学院合著《极紫外光刻光源的研究进展及发展趋势》一文，其中不仅详细介绍了ASML和日本Gigaphoton的EUV光源进度，还介绍了上海光机所2021年前后的EUV光源的液锡系统的几篇专利