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光刻机_雕刻机_曝光系统

光刻机机械制造工艺研究所,比原子弹还稀有

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中国作为目前世界上的第二大经济体,在很多高精尖领域引领着技术的发展,但有一样象征着工业强国的科技产品,我国始终无法完成自产,这就是EUV光刻机

   光刻机的含金量目前全世界能够制造EUV光刻机的国家只有两个荷兰和日本

光刻机的技术难点先进光刻机制造的第一个难点就是机器光源问题,在EUV光刻机问世以前,DUV光刻机是世界的主流,二者最大不同在与将DUV上193纳米的短波紫外线改为了13.5纳米的极紫外线,光刻机精度取得了跨越式发展

   反射镜同样是EUV光刻机上的重要一环,能够达到光刻机要求的多层膜反射镜,目前只有德国老牌镜头制造厂家蔡司能够拿出来,这一产品也安装在了ASML家最新研制的光刻机上,以实现EUV波段的高反效率

   除了上述两个关键系统,光刻机的工作台也为制造者提供难度极高的挑战

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   EUV光刻机会使用二氧化碳激光不断轰击DUV上应用的金属锡原液,使其在激光下变为等离子状态,波长相比之前更短

这一技术不但考验机器的精加工能力,对于操控激光发射的软件也提出了艰巨的要求,别说我国,目前也只有荷兰掌握着成熟制造技术,其他发达国家都会向其采购预定,以提高本国技术水平

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   日本和荷兰能够成为世界唯二两个可自主研发光刻机的国家,很大程度上都因为两国的加工能力起步很早

通过不断迭代提升,才能最终领跑全球

目前,最新一代的光刻机已经能够加工出只有人类发丝直径五千分之一的线条,精度令人咋舌

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