中国的光刻机产业链发展得如此缓慢，在于早期中国考虑到先进技术可以通过在海外购买的方式实现，因此导致国产的光刻机即使生产出来也没有厂商愿意使用，毕竟国产光刻机在技术方面不如海外企业
国产光刻机龙头上海微电子成立于2002年，其实它发展光刻机的时间不并不ASML晚太多
同在2002年台积电的技术专家林本坚发明浸润式光刻机技术，然而当时的龙头企业日本尼康和佳能不愿意采用，于是台积电才找上ASML，而当时的ASML相当落魄，寄身于飞利浦的它不受飞利浦重视，但是ASML当时的高管却认为浸润式光刻机技术可能改变市场格局，于是与台积电一拍即合
显然，这里提到的三个逻辑晶圆厂应该是英特尔、台积电和三星，两个存储晶圆厂应该是三星和SK海力士
△ASML首个High-NA EUV光刻系统虽然，三星和SK海力士尚未公开证实这一点，但消息人士表示，他们已经向ASML下了订单
持续扩大在韩国投资去年11月，ASML与韩国华城市签署了一份备忘录，宣布投资2400亿韩元（2.12亿美元），于2024年前在当地打造一座16,000平方公尺的维修中心和工程师培训中心，可容纳多达1500名员工
?直接从主机前面的口插进去的，插上线，开机放碟，立马就可以用了。很快。目前没什么问题。
不过美国可不想看到这情况，于是便利用政治手段，试图切断中国与阿斯麦之间的正常生意往来
而美国同时还对本国企业进行限制，更是出台法案禁止美国企业向中国出售部分芯片
不过中国这么庞大的市场，这么大一块蛋糕，作为商人肯定不会就此放弃
荷兰此番表态就意味着，荷兰将继续向中国出口光刻机
阿斯麦也是拧得清孰轻孰重，根据相关数据显示，受到美国禁令影响，其三季度的订单下跌趋势明显
另外值得一提的是，半导体领域90%的关键原材料均源自中国，所以荷兰就更加不想与中国作对了
长期以来，美国借用了各种手段以实现其阻碍中国半导体的发展
虽然嘴上声称会“尊重各国的选择权”，实际上却是强迫其他国家与其一起对华
见多了美国说一套做一套的行径，大多半导体企业都选择了留在中国
作为全球最大的ARM架构MCU厂商，意法半导体十分重视中国市场
读盘速度：读盘快速读盘声音：安静稳定性能：非常稳定外形外观：外观不错，即插即用，方便，静音，做工精良。很实用
读盘速度：快 读盘声音：小 稳定性能：相当好 轻薄程度：都是这个尺寸 外形外观：工艺精湛 产品包装：很好
读盘速度：17首歌大约15分钟内录完.还是挺快的。 读盘声音：声音很轻，完全能接受。 稳定性能：昨天收到后只用一次，中间没出故障。以后再观察一下。 轻薄程度：小巧玲珑，很轻。拿取方便。 外形外观：黑色的，做工精致，细腻，棱角处处理的很优雅。总体很美观。 产品包装：包装盒里边有专用泡沫塑料夹层固定，牢固又防震。而且包装盒也漂亮。
正如人民日报说的那样：关键核心技术是要不来、买不来、讨不来，若不自立自强，必有“卡脖子”之虞
国内企业应该放弃幻想，聚四海之气，借八方之力，自立自强不是关起门来搞科研
总而言之，与其对老美“松口”抱有幻想，还不如脚踏实地、身体力行地去完成全产业链的国产化替代，只有自己手中“有粮”，才能遇事不慌
刻录机非常好，读写静音极佳，刻盘质量极佳，是我用过的最好刻录机，质量也非常过硬，下次一定在来买。
在京东买过好多次刻录机，因为用的比较频繁，最满意的就是京东的售后，电子产品一般都会在京东购买。在电子产品这方面，京东是体验最好的网站没有之一。
除了这些以外，还有光刻机的机房环境也至关重要，由于灰尘颗粒会吸收光，首先机房必须是无尘，工作时必须穿无尘服，第二机房的光照环境是暖光灯减少对极紫外光的刺激，第三光刻机属于精密型仪器，不能受到外界干扰，所以机房下方必须架空以减少振动对设备产生的损坏
刚收到了就使用，非常好用，接上就能用，方便好用，质量保证。物流给力。宝贝性价比很高，质量做工很好，安装简单方便，接口兼容性比较好，推荐购买!
过去的这许多年，有众多的企业都想替代ASML，比如尼康、佳能，甚至还有上海微电子，大家都在光刻机上发力，想推出EUV光刻机，甚至换一个方向，用另外的技术来实现EUV光刻机的功能，但暂时都没有成功
如上图所示，这是ASML光刻机产业链中的主要核心部分，分国上、中、下游三个部分
读盘速度：很快 读盘声音：很轻 稳定性能：很好 轻薄程度：超薄的 外形外观：大气 产品包装：严谨
很久没有用过光驱了，现在小孩的学习资料很多是光盘，所以买一个用用，老牌光驱品牌，不错，很好用，如果能配套方便使用的刻录软件就更好了
光驱很漂亮，启动的声音很小，弹出非常平稳。希望能够用的时间久一些。读盘速度：很快读盘声音：声音小，几乎听不到产品包装：精美
简单的白色包装。简单的安装。简单的使用。速度还是很快了。能上25m/s。声音也不算大。信任京东，还没用，应该没问题。物流超快。
如今asml却供应给大陆一台光刻机，我个人认为这是跟前段时间上海企业宣布在14nm芯片上面取得技术突破有很大关系
对于High-NA EUV技术之后的技术方案，ASML正在研究降低波长，但其怀疑Hyper-NA将是最后一个NA，可能是接下来半导体光刻技术发展出现问题的地方，其制造和使用成本都高得惊人，且不一定能真正投入生产，当前半导体光刻技术之路或已走到尽头
特别是用于生产制造2nm、1.8nm等制程的High-NA EUV光刻机初期版本将于明年年末引进，预计2025年末将正式商用
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