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光刻机_雕刻机_曝光系统

光刻机对位原理,中国芯片在底层技术上实现突破

用了多年先锋刻录机,相信它的质量到手发现很小巧玲珑,方便携带,试刻了一张,很好,和win7兼容的很好,自动安装驱动系统直接就可以刻录,做工也不错!

京东自营一如既往的好,无论是配送的速度还是到上商品的质量,都非常的不错。 读盘速度:速度很快。光盘放进去,不一会儿就读出来了,很好。 读盘声音:非常的安静。 稳定性能:一直用这个品牌的光驱,性能很好很稳定。 轻薄程度:拿在手里很厚实,非常好。 外形外观:外观比较时尚,很好看。 产品包装:产品的包装比较用心,很简洁,非常好。 京东自营继续加油。

做工精致,读片性能很好,轻薄小巧携带方便,五星!还可以,价格很便宜了,电脑还是要装一个刻录机的,万一用了还是很方便的

光刻机对位原理,中国芯片在底层技术上实现突破

所以产业界开始寻找减少对先进工艺依赖方法,目前已经取得了不错的成绩,即芯粒和先进封装技术

我们现在的芯片,本质上是同质同构,也就是采用同样的材料和同一种芯片架构

而芯粒技术,就是采用不同的芯片架构,在芯片制造的后端环节,利用先进封装,再将不同架构的芯片集成到一起,形成一颗“大芯片”,所以芯粒也被叫做“小芯片”技术

实际上,就在今年年中的时候,台积电方面就表示,将CEFT晶体管技术作为未来的发展重点,且将CFET作为GAAFET的接班人,GAAFET是3纳米和2纳米工艺的晶体管技术,3纳米之前采用的是FinFET晶体管,英特尔方面也在大力发展CEFT晶体管

发货很快,配送师傅态度很好,先打了电话,还专门送上楼了呢,和黑色的一起买的,感觉先锋的刻录机很好用

光刻机对位原理

中国芯在底层技术上实现突破

虽然先进工艺用最短的时间解决了芯片性能的问题,但是很快,新的问题也暴露了出来,那就是成本,先进工艺无论是从芯片的设计还是制造,成本都成倍的提升,这种提升的幅度,即便是全球顶尖的芯片巨头,也都难以承受,例如苹果

光驱很好,声音不大,读盘速度快,现在用的不多了,买个备用,加上转接线,方便快捷,好用,好用,有需要再来买!牌子大,质量稳定,估计用很多年没问题!

读盘速度:速度还是相当快的,大概2秒左右。 读盘声音:声音很小,主要是用来放音乐?的。 稳定性能:性能指标还可以,支持各种格式的光盘?兼容性比较好。 轻薄程度:大小刚刚好,能放在光驱位,要螺丝固定。 外形外观:外观很别致,很简洁。 产品包装:包装盒完好,还送了数据线。

这种成本所暴露的问题,在光刻机上也开始显露

ASML方面在今年就已经表示,在高NA EUV光刻机的下一代产品上,光刻技术似乎已经走到尽头

倒不是说技术上做不到,而是成本上难以承受,光刻机的NA可以继续提升,但是成本将高出天际

在芯片设计上,28纳米工艺只需要4280万美元,7纳米则需要2.486亿美元,3纳米已经需要5.811亿美元,2纳米预计需要7.248亿美元,所以一颗3纳米芯片的设计成本,就是28纳米工艺的近14倍,超40亿人民币

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