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尼康光刻机对位原理

ASML此前几乎完全遵从美国，然而美国的回报却是美国芯片企业的背叛，美国芯片企业美光研发了绕开EUV光科技的1β工艺，美国光刻机企业Zyvex公司研发的电子束光刻机更是将终结EUV光刻机，这更是会要了ASML的命，ASML的感觉就是它全力支持了美国，而美国企业却不让ASML活命

为此近期荷兰的高官都开始站出来为ASML说话，荷兰外贸与发展合作大臣施赖纳马赫尔表示将捍卫荷兰企业的经济利益，以确保荷兰的经济发展，据称荷兰已与美国商讨ASML的自由出货权问题，如今ASML向中国出售光刻机，意味着荷兰的谈判已取得进展

就个人觉得，如果ASML早就打好了这个算盘的话，那么这限制出货的一开始或许就是一个局

之所以这样说，是因为从限制到现在，这个事情一直都在所谓的洽谈当中并没有正式限制，和当初对EUV光刻机的限制完全不同

现在的整个过程，ASML暂时还没有受到什么影响，该出货还是在出货，该增加的营收还是在增加，并且ASML还有意加码中国市场

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太行全面开花

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中国也拥有了高性能的第三代大推力涡扇发动机

按照这些人，凡是中国搞出来的都不算高科技的理论，那大推力涡扇，从此也就被开除出高科技行列了

但中国航空发动机的发展并没有就此止步，反而继续夯实基础，全面开花

11月初，北京航空材料研究院实施的航空发动机关键构件抗疲劳寿命试验突破5万小时，标志着我国高端装备制造技术取得全新突破

DUV光刻机又有两大路线，其中一种就是ASML为代表的浸润式光刻机，以水为介质，采用193nm波长的光线，在水中折射后，变成132nm，而这种设备一次曝光可以生产45-28nm的芯片，价格比EUV便宜一半

先锋蓝光刻录机非常好，物美价廉，很实用，物超所值，质量还是不错的，刻录很方便，三步就像U盘一样，直接拖拽就可以刻录了，不需要非常麻烦的操作，也不需要下载刻录软件，而且可试用的光盘范围比较宽广

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中国古语有云~~~杀鸡取卵，饮鸩止渴，就是指得这个“弯道超车”呀

我们要警惕最近有一些MCN机构艺人胡编乱造，为芯片造假翻案，并且大肆鼓吹各种“弯道超车”、“美国芯片没人要了”、“美国半导体要失业了”

这些“弯道超车”党的鼓吹、糊弄舆论，有可能导致我们国家大批投资化为泡影

逻辑芯片晶圆厂不同芯片节点的光刻机需要投资比例到了7纳米以下，先进逻辑芯片所需要的EUV光刻机的投资比例不断增加：1，5纳米节点的EUV光刻机比例达到60%；2，3纳米节点的EUV光刻机比例达到70%；3，2纳米节点以下的EUV光刻机比例达到80%

组了一台生产力，工作需要的原因，搞了一个光驱装上。读取速度刻录速度都不错，sata接口也很方便，京东的物流快到不行，前一天晚上下单，第二天上午就拿到手了！好评好评～现在有需要光驱的应该很少了，感觉不错

美国禁止向中国出售EUV光刻机

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众所周知，中国研究光刻机几十年，研究进展缓慢，那么光刻机是什么东西，为什么这么难呢？光刻机在国际上属于尖端科技，国际上在光电领域荷兰知名企业ASML（阿斯麦）一直处于垄断地位，一台光刻机的售价高达八亿，而且还是供不应求，由于美国限制对中国出售高科技产品，中国购买一台光刻机，竟然几年时间还没交货

光刻机禁令近在眼前

由于自家的光刻机中需要使用美国生产的零部件，即使荷兰政府不出台相关政策，ASML 也已经受限于美国的出口管制措施，没办法向中国出口最先进的极紫外线（EUV）光刻机（可以用于生产 7nm 及更先进的芯片）

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根据媒体报道，荷兰正计划跟上美国，对中国出台半导体出口管制措施

虽然具体的细则暂不明确，但不大可能比美国的更严

光刻机是芯片制造中过程中最重要也是技术含量最高的设备，总部位于荷兰的阿斯麦（ASML）几乎垄断了全球高端光刻机市场，整体市占率约 75%

很好的刻录机，刻录盘时声音很低，刻盘成功率高。质量不错，安装简单，稳定性也很好，读碟速度快，值得推荐

和汽车一样，任何一家主机厂都无法脱离产业链生产出优质的产品，光刻机也一样，不是靠一两家单位埋头苦干就能研究出来的，就好比ASML背后是强大的欧美光学设备产业链，要自己生产出光刻机，需要的是一个同时进步的中国光学产业

Pioneer 外置光驱很好使用，兼容macOS系统，读碟声音很小。很好的一款光驱，先锋品牌质量不错，虽没有用同样给予好评！

尼康光刻机对位原理

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之前自己买了一个，用着特别好，单位也买了一个，存储容量大，数据备份。速度很快还很稳定。不错得选择，比我之前用的那个快多了，

由此可见，目前在芯片领域被卡脖子的中国，想要实现光刻机的国产化是相当困难的，但生产国产光刻机并不是不可能，出于技术积累与人才储备不足的问题，中国目前显然无法完成高端光刻机的国产化，但对于中低端光刻机，中国有足够的实力去完成国产化，目前上海微电子公司就已经展开了对28纳米工艺光刻机的研发，该光刻机将于今年交付使用，虽然28纳米制程落后于国际领先水平，但这却让中国的光刻机工艺从90纳米直接步入28纳米，属于重大进步

简单来说，复旦大学成功实现了CFET晶体管，该晶体管在当前的应用特点，是可以实现集成度的翻倍，这与提升芯片制造工艺的结果是一样的，因为提升工艺的目的就是为了提升晶体管的集成度

因此我们就可以看到，将芯粒、CFET和先进封装结合起来，就可以实现异质异构芯片，异质异构芯片与采用依赖先进工艺的同质同构的芯片相比，性能上并不占有劣势，但是成本上却占有极大优势

前几天卖了2部先锋刻录机很好用，刻录光盘快，很好。先锋大牌声音很轻，感觉稳稳的，现在很少有上翻盖的光驱了，不错