用于生产 2nm 芯片的 ASML 新款光刻机预计在 2025 年首次投入使用，对芯片厂商而言，“2nm 工艺战”已经打响
ASML 冲刺 0.55 NA EUV 光刻机对于芯片厂商而言，要想发展先进制程，光刻机是关键设备
芯片厂商打响“2nm 工艺战”
英特尔称，公司将成为 ASML 第一台 EXE:5200 的买家
与 EXE:5000 相比，EXE:5200 预计将带来几项改进，包括更高的生产率等等
在最新款高 NA EXE:5200 光刻机的订购方面，台积电、三星也有所动作
读盘速度：8倍速，速度一点也不卡顿。先锋在光存储领域有着多年研发经验,是做刻录机的大品牌。 读盘声音：声音不大，外接放置也很稳。 轻薄程度：轻薄，手感很好。 外形外观：黑色磨砂质感，看起来稳重显高级。 产品包装：盒子里有防震保护，盒子外面套塑料袋，干净。 快递速度特别快，从下单到拿到手，只用了不到5个小时。
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在发力 0.33 NA EUV 光刻机的同时，ASML 也在冲刺研发 0.55 NA EUV 光刻机
ASML 高 NA 系统路线图ASML 发言人向媒体介绍，更高的光刻分辨率将允许芯片缩小 1.7 倍、同时密度增加 2.9 倍
为什么要冲刺高 NA EUV 光刻机？光刻系统所能达到的分辨率是光刻收缩的主要驱动因素之一，它主要由所用光的波长和光学系统的数值孔径决定
更短的波长可以打印出更小的特征；更大的数值孔径可以更紧密地聚焦光线，也能够带来更好的分辨率
稳定性能：不错 读盘速度：很快 外形外观：还好 轻薄程度：适中 产品包装：精美 读盘声音：很轻
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”此外，根据台积电早前消息，公司今年资本支出为 400 亿美元至 440 亿美元，多数用于先进制程
此次三星若能争取到更多 EUV 光刻机，则今年至少可获得 18 台，不过三星未详细说明此次获得的“额外”EUV 设备内容
读盘速度：读盘速度很快 读盘声音：读盘运行声音很轻不注意听几乎听不到声音 轻薄程度：宝贝很轻巧，拿在手上没多少重量 外形外观：外观大气，很喜欢