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光刻机_雕刻机_曝光系统

ASML 官宣新一代光刻机研发进展,上海中微电子65纳米光刻机

到货后马上拆机更换,读取速度也很快,刻录效果以后再试,一直用这个牌子,效果不错,东西还是不错,好用,就是包装盒是脏的,不舒服

即便如此,0.55 NA EUV 光刻机还是得到了芯片厂商的火热预购

毕竟,这是研发 2nm 工艺的芯片的必选项

在各大芯片厂商中,英特尔的速度最快

今年 1 月 19 日,英特尔向 ASML 订购最新款高 NA EXE:5200 光刻

二次买了,上次5个,这次又为单位上买了5个,上次买的评价比较好,读盘能力强,刻盘很稳定,国产品牌中很不错的产品,现在用光驱的时候越来越少,外置光驱价格也降了不少,有时要用的时候又找不到,常备几个以备不时之需。

读盘速度:很快,比以前家里的快多了。 读盘声音:声音小,也很正常。听到一直在读盘的声音感觉心里很踏实。先锋真的好牌子。 稳定性能:稳定好用,没有出现过问题。 轻薄程度:轻薄好拿。快递给我的时候掉到地上了,也没有摔坏。还很正常的用。 外形外观:外观好看。真的不错

ASML 官宣新一代光刻机研发进展

产品包装:包装妥当,严实 稳定性能:稳定 读盘声音:较小 外形外观:小巧 轻薄程度:轻薄 读盘速度:很快 先锋不愧是光驱第一品牌,以前用过先锋的CD刻录机,从没有废盘,刻录质量杠杠的!

英特尔称,公司将成为 ASML 第一台 EXE:5200 的买家

与 EXE:5000 相比,EXE:5200 预计将带来几项改进,包括更高的生产率等等

在最新款高 NA EXE:5200 光刻机的订购方面,台积电三星也有所动作

读盘速度:很快 读盘声音:很小,几乎听不到声音 稳定性能:性能稳定 轻薄程度:与台式机配套合适 外形外观:精緻 产品包装:严实无破损。

另据韩媒 Business Korea 报道,三星电子计划通过在未来三年内打造 2 纳米 GAA(Gate-all-around)工艺来追赶台积电

随着 0.55 NA EUV 光刻机量产提上日程,芯片厂商的“2nm 工艺战”也将彻底打响

用于大批量制造,以创建先进的微芯片(7 nm、5 nm 和 3 nm 节点)高度复杂的基础层,并支持新颖的晶体设计和芯片架构

日前,在 2022 SPIE 高级光刻会议上,ASML 介绍了 EUV 的最新进展

根据 ASML 最新消息,新款 EUV 光刻机正在研发中,NA 将从 0.33 增加到 0.55(NA 是光学系统的数值孔径,表示光线的入射角度),2nm 工艺的芯片都将依赖其实现

好使,稳定性能强大,即插即用,很不错的一款产品,给客户买的,收到包装完好,安装简单,读取速度快,很赞

ASML 官宣新一代光刻机研发进展,上海中微电子65纳米光刻机

专门咨询计算机的朋友选的这款,很好用,速度很快,也没什么噪音,价格也公道,京东送货也超快,不耽误时间,很满意!

海中微电子65纳米光刻机

在第一季度,我们收到了多份 EXE:5200 系统订单

我们这个月还收到额外的 EXE:5200 订单

我们目前已有来自三个逻辑芯片和两个存储芯片客户的高 NA 订单

EXE:5200 是 ASML 的下一代高 NA 系统,将为光刻技术的性能和生产力提供下一步的发展

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