高端euv光刻机制造很难吗
按照机构的数据，2022年28nm及以下的芯片占全球所有芯片的比例还高达75%+，所以我们现在的重点不是先进工艺，而是全产业的国产化率，同时提升产能，先满足国内成熟工艺的需求，先解决了这些问题，再向先进工艺前进，这样才走得稳健
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好多年不用光驱了，孩子开学了，发了很多书都带光盘教学，赶紧买了这个光驱，大牌子的先锋，专业的光驱制造商，值得信赖，读盘效果杠杠的，超级赞??
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而前道工序更是重点，有至少8个工序，分别是扩散、薄膜沉积、光刻、刻蚀、离子注入、CMP抛光、金属化、测试
而这里也要用到各种设备，众多的材料，光刻机只是其中的一种设备，这些设备大多和光刻机一样，是有精度要求的，分别要求达到7nm
组了一台生产力，工作需要的原因，搞了一个光驱装上。读取速度刻录速度都不错，sata接口也很方便，京东的物流快到不行，前一天晚上下单，第二天上午就拿到手了！好评好评～现在有需要光驱的应该很少了，感觉不错
刚收到货，装上后刻了一张，很好。原以为先锋DVD内置刻录机停产了。现在看来是谣传，从机子上看是今年5月出厂的。
目前网络有一种声音，那就是我们必须自研出EUV光刻机，只要自研出EUV光刻机，ASML和美国就卡不住我们的脖子了，芯片就再也不用愁了
但真的自研出EUV光刻机，我们就能够制造出7nm芯片了么？在我看来，仅靠EUV光刻机，是远远不够的，还差得远呢
我们也无法顺利制造7nm芯片
超级好的光速啊，十年前买的一个一直都在用，用不坏的先锋，还会再买这个牌子的。。。。
还有一些材料，也需要达到7nm，比如光刻胶，7nm及以下芯片制造需要的是EUV光刻胶，但我们自给率为0
后道工序，这里主要涉及到的是封测，相对要求会低一些，但也是有工艺精度要求的
目前仅是EUV光刻机卡得最为明显，卡得最为关键，最为大家所知而已，并不意味着其它设备或材料不卡了，一旦EUV光刻机我们有了，美国在其它设备或材料上就会卡住我们的
综合起来看，要想芯片制造水平达到7nm，需要EDA支持7nm，半导体材料也是支持7nm，半导体设备也支持7nm……而EUV光刻机只是其中的一种设备，就算我们突破了，美国或其它国家一样能够在其它设备、材料上卡住我们，因为目前国产的半导体材料、半导体设备，很多在28nm甚至更成熟的工艺，达到7nm的少之又少