我在之前的视频里讲过,华为的光源专利,其目的就是先对强光源进行去相干处理,以达到匀光效果,这样才能保证光刻工艺的正常进行
ASML光刻机的精度跟光源的波长、物镜的数值孔径是有关系的,波长越短越好,刻机分辨率就越高,制程工艺越先进
中国能生产14nm光刻机吗
真是神速,昨天下午下的单,今天上午快递员就把货送到了,打开自己安装后,效果非常好,读碟速度快,播放顺畅,满分好评。
买了一段时间,非常好用……先锋大品牌、京东自营值得信赖,保修无忧。物流快捷下单第二天就到货,快递小哥服务态度? 读盘速度:8X-48X,刻录速度 12X-48X 读盘声音:很小 稳定性能:供电稳定,高速运转稳定性好 轻薄程度:正常光驱大小 产品包装:完好、简洁 需要还会光顾?
很好用,稳定实用,磨砂外壳也不易沾染指纹。很不错!性价比高!买一个装着说不定用得着。虽然现在用光盘概率很小。。。
安装之后下了播放器,使用起来非常顺畅,读取蓝光碟迅速,很棒,先锋电器产品是老牌的品牌 质量可靠 性价比很高 ?评
到货后马上拆机更换,读取速度也很快,刻录效果以后再试,一直用这个牌子,效果不错,东西还是不错,好用,就是包装盒是脏的,不舒服
发货速度快,包装严实,刻录机做工很精致,装上很好用,就是没有送刻录软件。替换了原来的内置光驱,完美安装上后,开机自动识别,无需任何操作(win7)
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而超分辨率光刻机在原理上突破分辨力衍射的极限,与ASML的技术路线完全不同,不依赖光源波长及镜头数值孔径的传统路线格局
当然,研制出这款超分辨率光刻机,并不意味着我们已经实现了弯道超车,否则也不至于出现华为无法获得高端芯片的情况
我们国家在4年前,曾经研制出一种特别的光刻机,但是很少有人知道,它的名字叫超分辨率光刻机,这台光刻机可是哟经365nm波长实现22nm工艺制程,通过多重曝光等手段,还可以实现10nm以下的工艺制程
在此基础上,项目组还结合超分辨光刻装备项目开发的高深宽比刻蚀、多重图形等配套工艺,未来能够实现10纳米以下特征尺寸图形的加工
具体是将入射光照射在透镜表面的小探针上,然后探针表面的电子就会有序的震荡,从而激发产生波长非常短的等离子体,然后在光刻胶上刻出非常小的图形
而ASML的光刻机,是将激光束经过一些列反射整形后,过滤掉衍射,然后投射经过光刻模板,再投射到硅片上
因为以现有的技术能力,这款光刻机只能做周期的线条和点阵,还是无法制作复杂的IC需要的图形的
同时,它还有一个显著的缺点,就是聚焦的面积非常小,属于接触式光刻,易产生缺陷,并且因为是直写式光刻,所以生产效率很低
所以,目前这款超分辨率光刻机只适用于特殊应用,例如科研攻关、技术研发等领域