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中国的目标,是要在2030年造出EUV极紫外光刻机,大家可能觉得,ASML2010年就已经开始量产光刻机,这会不会太晚了,事实上,这并不算太晚,我们通过不断地缩小所采用的光源的波长(EUV光源13.5nm),增强投影物镜的最小线条成像能力(提高数值孔径1.3)等方式,不断缩小能够加工的最小线宽
然而,这些方式使得我们光刻机的制造难度以及制造成本急剧增加,并且已逐步逼近物理极限
所以ASML想要研发出下一代的光刻机,2030年前还是很难完成的
事实上,现在全球市场上,第四代浸没式光刻机仍然是当前半导体制造的主力设备
这也是为什么其技术难度高的原因,一个看似简单的原理,在超高精度的制约下需要结合光学 材料 控制 电子 机械化学等最顶尖的技术,才能最终完成这以类人历史上几乎最精密的机械
光刻机的零件90%使用了世界最先进的加工技术,甚至一些接口都要工程师用高精度机械进行打磨,尺寸调整次数更可能高达百万次以上
有许多朋友问我,国产5nm光刻机什么时候可以造出来,但是我要告诉大家,什么7nm光刻机、5nm光刻机,其实这样的说法是不准确的,在这个世界上,其实并不存在什么5nm光刻机
光刻机是什么什么是光刻机,利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光,光刻胶见光后会发生性质变化,从而使光罩上的图形复印到薄片上,从而使薄片具有电子线路图的作用
这种外置光驱非常好用,买来刻录cd用的,用完可以带走。非常好的一款刻录机,大品牌,值得信赖,而且这个也比较专业吧!
光刻机为什么重要,就是因为只有通过光刻机,把电路图和其他电子元印在硅片上,才有制造出芯片的可能光刻机需要在一块指甲盖大小的硅晶片内,映射出几十亿甚至上百亿个微小的单元,目前最先进的光刻机能够加工的最细线条已经达到13nm
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