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光刻机_雕刻机_曝光系统

从“造不如买”到集中力量攻坚,中国用口罩换荷兰光刻机技术

二次买了,上次5个,这次又为单位上买了5个,上次买的评价比较好,读盘能力强,刻盘很稳定,国产品牌中很不错的产品,现在用光驱的时候越来越少,外置光驱价格也降了不少,有时要用的时候又找不到,常备几个以备不时之需。

  虽然迫于美国的压力荷兰无法向中国出售先进制程光刻机,但庞大的中国市场,让ASML无法拒绝其诱惑力,数据统计显示,在2022年第一季度,ASML共交付62台光刻机,其中21台DUV都成功销往中国

  【“求人”不如“求己”】  回顾中国的半导体行业,光刻机的技术发展历程可谓是曲曲折折,但这也无时无刻在警醒着中国,不能长期靠“外来力量”,究其根本还是要靠自己

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从“造不如买”到集中力量攻坚

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  1961年,美国GCA公司成功制造出第一台接触式光刻机,再加上新中国建立初期,美国、英国等17个国家就成立了国际巴黎统筹委员会,主要是为了限制成员国向发展中国家出口物资和高新技术,中国也在封禁的行列之中

后来国家为了解决这一难题,除了抓紧整机制造,还开始扶持一系列配套产业链的发展,在不懈努力下,光刻机产业也成功在2016年实现90nm的光刻机量产

  同年,中国的清华大学团队和华卓精科成功研发了光刻机双工作台系统样机,至此中国光刻机技术水平达到除ASML外的“外国”同步水平

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因此我国的光刻机技术水平仍然需要不断努力突破,才能弥补这个差距

  【中国光刻机的三次“突破”】  在1952年,我国步入计算机科研,国家也正是成立了计算机科研小组,而此时的中国相对于外国来讲,GDP仍然差距较大

  直到1956年,我国正式开始重视半导体产业,并且成功研制出第一只晶体三极管,从此中国进入半导体的新纪元,然而此时相对世界上第一只三极管的诞生已经过去了长达9年的时间

中国用口罩换荷兰光刻机技术

  后来的中国通过老一辈的科研工作者努力,正在一切向着前进的方向发展,然而本以为将会顺利发展、步入快车道的中国光科技产业,在1984年遭遇了“中断

  伴随着日后光刻机市场霸主ASML的诞生而打破,并且随着中国重视重心逐步趋向于其他行业,中国在80年代底,开始主张“造不如买”的政策

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