中芯国际光刻机是自研的么
物流很快，东西也不错。。。目前读盘很好，刻录还没有用呢，手头没有空白盘。。还是内置的刻录机稳定速度快。。。非常好用 看了说明书就知道了 操作简便易学 非常好用 看了说明书就知道了 操作简便易学
读盘速度：很快 读盘声音：很小，几乎听不到声音 稳定性能：性能稳定 轻薄程度：与台式机配套合适 外形外观：精緻 产品包装：严实无破损。
专门咨询计算机的朋友选的这款，很好用，速度很快，也没什么噪音，价格也公道，京东送货也超快，不耽误时间，很满意！
当然，由于这两个项目是2018年1月便启动的项目，先于美国的光刻机制裁，因此其立项根据、任务指标等可能与当前的光刻机困局的境况并不匹配
我相信它们依然是基于长期的攻关目标而设定的
由于该项目是2021年9月结束，我还没有查阅到相关的结题资料，所以我们可以从六镜极紫外光刻投影物镜所必需的软硬件条件开始，以及近期公开发表的论文资料，去分析其所能达到的水平
中国光刻机困局之2022(二):六镜头极紫外光学系统的起源
先锋的光驱还是不错的，外观设计简朴大方黑色非常耐看，大小正合适，使用了一下，使用正常没问题。另外，京东自营配送速度很快，包装完整无缺，昨天下单，今天中午就收到货了。
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极紫外光刻研究的4个阶段在谈六镜极紫外光刻投影物镜之前，有必要回顾EUV光刻机发展历史，简而言之，在德国蔡司长达30年的极紫外EUV光学研究历史里，有4个里程碑的阶段，包括：1，2003年之前的两镜头曝光装置（MET）；2，2006年的六镜头EUV演示工具（ADT）；3，2009年的第一代六镜头 NA0.33 EUV光刻机；4，明年即将推出的第二代六镜头 NA0.55 EUV光刻机
更令人注意的是一项2018年1月至2021年9月的新项目：六镜极紫外光刻投影物镜研发与验证, 参与, 国家任务, 2018-01--2021-09王丽萍教授的极紫外光刻研究活动值得注意的是，与上述六镜极紫外光刻投影物镜开发项目同时同期开展的，还有一个国家项目“极紫外光刻机核心子系统关键技术攻关”
一个 6 英寸的 EUV 光掩模结语20年前，ASML的一台ADT工具，便坐落在纽约州立大学理工学院，也就是帕特里克·诺洛（Patrick Naulleau）当时工作的单位
这套价值6500万美元的设备信息，至今仍然挂在纽约州立大学理工学院（SUNY POLY）的主页，这里曾经是世界EUV光刻技术的研发先驱
2005年论文：美国加州伯克利劳伦斯实验室的NA0.3的MET工具在这篇论文里，我们可以清晰的看到MET工具CAD模型，它主要包括两个部分：1，从上部的同步辐射光源系统（From synchorotron）经过一个扫描单元传递至曝光装置；它相当于EUV光刻机的EUV光源系统；2，MET曝光系统主要包括从上到下的4个部分：光罩台、投影光学系统、晶圆台、照明台