除ASML之外的光刻机厂商们近况如何?
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NSR-S635E光刻机 / 尼康虽然这样的机器在分辨率上与ASML的EUV光刻机还存在着不小的差距，但已经足以覆盖不少成熟工艺的晶圆制造，以及部分次先进节点的辅助制造了
而在去年的SPIE先进光刻机技术会议上，尼康展示了名为双光束EUV光刻技术
从尼康最新季度的财报来看，由于工厂建设的投入被推迟，FPD光刻系统市场有所下滑，所以销量有所降低，上季度只卖出了6台FPD光刻机，6台i线光刻机、1台KrF光刻机和1台ArF浸没式光刻机
由于ArF光刻机仍有着较为强劲的需求，所以尼康仍然看好这一市场的未来趋势，目前核心客户因为人员短缺或能源供应等问题，只是在交付上有所推迟
阿斯麦光刻机老总来中国
所以哪怕是半导体市场有些许低迷，尼康也并没有任何订单因此被取消
值得一提的是，虽然尼康本身目前并没有生产EUV光刻机，却有为EUV系统生产光学组件的
不过与EUV光刻机本身一样，EUV的光学组件拥有极长的交期
尼康尼康的光刻机产品阵容比较全面，包括ArF浸没式扫描光刻机、ArF步进扫描光刻机、KrF扫描光刻机、i线步进式光刻机和FPD面板光刻机，基本涵盖了除EUV以外的主流光刻机
其中最新的NSR-S635E为ArF浸没式扫描光刻机，可以做到小于等于38nm的分辨率，1.35的数值孔径和大于275晶圆/小时的吞吐量
读盘速度：读取速度挺快 读盘声音：很安静 稳定性能：兼容性好，win10免驱 产品包装：完美 外形外观：大方
用了多年先锋刻录机，相信它的质量，到手发现很小巧玲珑，方便携带，试刻了一张，很好，和win7兼容的很好，自动安装了驱动，系统直接就可以刻录，做工也不错！
虽然仍在概念阶段，但从论文上看基于该技术打造的光刻系统可以做到10nm的分辨率，0.4的数值孔径和200晶圆/小时以上的吞吐量，这样的参数甚至可以与ASML正在制造的高NA EUV光刻机一较高下了
不过要想造出这样的机器光有概念可不够，与之相关的元件与设备生态都得建立起来才行
本来准备装电脑上的，结果发现机箱没有光驱位，索性加一个光驱盒，拿来当外置光驱，没想到速度还挺快的，声音很小，比较安静
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