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光刻机_雕刻机_曝光系统

光刻机设备工程师前景,中国光刻机困局之2022(二):六镜头极紫外光学系统的起源

光刻机设备工程师前景

光刻机设备工程师前景,中国光刻机困局之2022(二):六镜头极紫外光学系统的起源

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编者按:2021年12月30日,长春光机所依托02专项极紫外光刻研究团队,在深圳国资委资助下,合作成立了一家新企业:长光集智光学科技有限公司

春光机所研发团队持股20%,而第二大自然人股东--王丽萍教授,便是今天故事的主角

王丽萍教授2007年论文设计的2镜头MET曝光光学系统在这篇论文结尾,王丽萍写道:“根据我国阶段的技术基础和研究目标,两镜微缩投影系统的研究仍为重点”

两镜头MET曝光工具性能两镜头MET曝光工具与量产型EUV光刻机具有本质的不同,它不具有生产能力

中国光刻机困局之2022(二):六镜头极紫外光学系统的起源

2005年论文:美国加州伯克利劳伦斯实验室的NA0.3的MET工具在这篇论文里,我们可以清晰的看到MET工具CAD模型,它主要包括两个部分:1,从上部的同步辐射光源系统(From synchorotron)经过一个扫描单元传递至曝光装置;它相当于EUV光刻机的EUV光源系统;2,MET曝光系统主要包括从上到下的4个部分:光罩台、投影光学系统、晶圆台、照明台

读盘速度:很快 读盘声音:不大 稳定性能:很稳定 轻薄程度:合适 外形外观:完好 产品包装:结实

因此,在大约十年时间里,长春光机所获得了突破性的进展 -- 两镜头MET工具的设计和制造能力,使得我们有机会进行下一阶段的六镜头EUV光学系统的设计和开发

而这也是篇首我们看到的王丽萍教授参与的六镜头投影系统设计和验证工作的基本背景

读盘速度:满意 轻薄程度:满意 外形外观:漂亮 读盘声音:很轻哦 稳定性能:优异 产品包装:简约不失大气

极紫外光刻研究的4个阶段在谈六镜极紫外光刻投影物镜之前,有必要回顾EUV光刻机发展历史,简而言之,在德国蔡司长达30年的极紫外EUV光学研究历史里,有4个里程碑的阶段,包括:1,2003年之前的两镜头曝光装置(MET);2,2006年的六镜头EUV演示工具(ADT);3,2009年的第一代六镜头 NA0.33 EUV光刻机;4,明年即将推出第二代六镜头 NA0.55 EUV光刻机

和联想办公电脑完美兼容。刻录光驱所用CD-R(即英文的***pact Disc Recordable)盘的容量一般为700**.它上面所记载资料的方式与一般CD光盘片是一样的,也是利用激光束的反射来读取资料,所以CD-R盘片可以放在CD-ROM上读取,不同的是CD-R盘可以写一次。这次买的先锋老品牌,和Nero10.0软件完美兼容,非常稳定,快。价格也很便宜,性价比非常之好了。

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