为什么需要高NA光刻机从今年发布的不少新品来看，即便工艺没有太大的变化，芯片的性能仍在稳步提升，有的是从架构上找到了创新，有的选择了改善带宽之类的性能
但我们也都能看出，其中有一部分产品选择了走大规模的路线，比如苹果的M1 Ultra
非常满意，性价比高，品质很好，赞赞赞！！！俊秀的外表，优雅的气质，卓越的性能，完美。
简单的白色包装。简单的安装。简单的使用。速度还是很快了。能上25m/s。声音也不算大。信任京东，还没用，应该没问题。物流超快。
送货依然很快 到了就装上了 很快很静音 以前的也是先锋的 用了很多年很多次 买新的依然选择先锋
读写速度快，很好用，读写速度快，质量好，价格实惠，物流快，非常满意的一次购物。
所谓high-NA即高数值孔径，从当前的0.33提升到0.55，从而允许更紧密的电路图案（2nm及以下）和更高的生产效率
据报道，高NA EUV光刻机系统的单台造价将在3亿到3.5亿欧元之间，约合人民币21.95到25.61亿元
读盘速度：很快，关键是稳，8倍速，蓝光的 读盘声音：声音很轻，可以说用细微来形容 稳定性能：8倍速保证光盘刻录一张保一张 轻薄程度：很轻薄，很便携，非常好 外形外观：小巧，低奢而大气 产品包装：产品的包装很好，两侧的泡沫直接让刻录机在包装盒里悬空，极大地避免了震动！
在东京买原装正品未拆封，好东西非常方便就开始使用了，外观也漂亮，轻薄设计、金属外壳黑色烤漆，看着就喜欢。 读盘速度：正常 读盘声音：轻 稳定性能：刚刚才用，感觉蛮稳定的 轻薄程度：轻薄设计，感觉舒服 外形外观：有金属感，漂亮 产品包装：完整、原装正品未拆封
挺好用的，多了一根电源线，对功率小的笔记本很有好处，刻录速度不错，不易刻录失败。好用。白色颜值很高
ASML正在准备向客户交付首台High-NA EUV光刻机，大概会在明年某个时间点完成
据悉，High-NA EUV光刻机会比现有的EUV光刻机更为耗电，从1.5兆瓦增加到2兆瓦
主要原因是因为光源，High-NA使用了相同的光源需要额外0.5兆瓦，ASML还使用水冷铜线为其供电
2nm、1nm全靠它!High-NA EUV光刻机2025年末将正式商用nikon光刻机光路原理
如今的深度学习在大规模模型的爆发下，所需算力每几个月就会翻一番，但现在能效比已经成了优先级更高的指标，要想同时满足性能和算力的话，主要方法有四种：一是换一种系统级计算架构，比如DSA架构；二是充分利用3D设计，也就是我们常说的3D封装和堆叠技术；三是从晶体管架构上创新，譬如纳米管、纳米片、CFET和原子沟道等；第四个则是目前看来最快捷的一条路线，通过光刻技术的发展直接提升密度
特别是用于生产制造2nm、1.8nm等制程的High-NA EUV光刻机初期版本将于明年年末引进，预计2025年末将正式商用
ASML明年交付首台High-NA EUV光刻机ASML首席技术官Martin van den Brink日前受访时表示，目前公司正有序推行其路线图，在EUV之后是High-NA EUV技术