王丽萍研究生在读时，于2007年发表了1篇EUV光刻光学设计的论文，涉及两镜头微缩投影系统：《极紫外投影光刻两镜微缩投影系统的光学设计》
王丽萍2007年发表论文在这篇论文中，给出了一套MET工具的光学设计图，其数值孔径NA0.3，分辨力优于32nm、矩形视场为 300μm×500μm
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而如果我们把2017年当作中国的两镜头EUV光学系统成型的时间节点，我们有条件在3年内完成ADT验证机吗？回答这个问题，我们首先要理清蔡司的MET工具和长春光机所的MET工具的差异：2003年蔡司的两镜头MET曝光工具的核心功能，是进行EUV的曝光能力极限的原理性论证工作；而2017年中国的两镜头MET曝光系统核心是搭建中国的EUV研究基本条件、团队
一个 6 英寸的 EUV 光掩模结语20年前，ASML的一台ADT工具，便坐落在纽约州立大学理工学院，也就是帕特里克·诺洛（Patrick Naulleau）当时工作的单位
这套价值6500万美元的设备信息，至今仍然挂在纽约州立大学理工学院（SUNY POLY）的主页，这里曾经是世界EUV光刻技术的研发先驱
中国光刻机困局之2022(二):六镜头极紫外光学系统的起源尼康光刻机镜头
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美国加州劳伦斯伯克利实验室CXRO主任值得一提的是，2005年发表这篇论文的帕特里克·诺洛（Patrick Naulleau）当年是纽约州立大学的副教授，他现在是加州劳伦斯伯克利实验室CXRO的主管，CXRO实验室正在为下一代NA0.55 光刻机开发关键配套材料
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当然，由于这两个项目是2018年1月便启动的项目，先于美国的光刻机制裁，因此其立项根据、任务指标等可能与当前的光刻机困局的境况并不匹配
我相信它们依然是基于长期的攻关目标而设定的
由于该项目是2021年9月结束，我还没有查阅到相关的结题资料，所以我们可以从六镜极紫外光刻投影物镜所必需的软硬件条件开始，以及近期公开发表的论文资料，去分析其所能达到的水平